[发明专利]离子源腔体送气时的真空冲击保护方法无效
| 申请号： | 200910090663.6 | 申请日： | 2009-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN102002676A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 罗宏洋;孙勇;王迪平;谢均宇;周文龙 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市中关村科技园通州园光机*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子源 送气 真空 冲击 保护 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种离子注入机用的向离子源真空腔体送入工艺气体时的真空冲击防护方法，使用了离子源真空高规、送气管路压力传感器、送气隔离阀、支路隔离阀、质量流量计等控制部件，方法如下：
(1)真空冲击防护方法开始；
(2)选择工艺菜单指定的工艺气体对应的SDS低压气瓶，设置气瓶对应的质量流量计(以下简称MFG)为零，打开气瓶对应的支路隔离阀；
(3)打开离子源送气隔离阀(以下简称Vs)一段时间；
(4)如果送气管路压力传感器(以下简称Sp)的检测值小于设定值(以对高真空形成冲击破坏为要求)则防护方法结束否则继续；
(5)关闭Vs一段时间，直到离子源恢复较高的真空值；
(6)重复多次，直到Sp检测值满足要求；
(7)将MFG设定为工艺菜单指定值；
(8)真空冲击防护方法结束。
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