[发明专利]潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪

说明书

技术领域

本发明涉及一种雾化熏显仪，特别涉及一种超声波雾化熏显仪，其基于超声波雾化原理，使潜在痕迹可清晰显现出来。

背景技术

传统的潜在痕迹化学显现有有喷涂、浸泡、擦试等诸多模式，但上述模式存在很多缺点，如使潜在痕迹扩散、污染检材、涂液不均匀、药液浪费、操作繁琐等问题，容易损失痕迹的细节特征，最重要的是会对物证造成不可逆转的损坏，使之失去了法庭诉述的效力，因此限制了潜在痕迹化学显现方法的使用范围。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，其是基于超声波雾化原理，根据潜在痕迹的技术要求，可将茚三酮、DFO等化学试剂雾化成微细的雾滴(称为气溶胶)的设备，由于所生成的气溶胶比重大于空气，可以迅速沉降并与客体表面上的足迹和指纹物质发生结合的化学反应，从而清晰的显出潜在痕迹。

为了达到上述目的，本发明提供一种潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，其包括一超声波雾化机构及潜在痕迹显现箱，所述的超声波雾化机构与所述的潜在痕迹显现箱通过一导管相连通；其中，

所述的超声波雾化机构包括：

一水介质容器，其内设置有水及一超声波振荡片；

一化学试剂振荡膜容器，其设置于所述水介质容器上；

一振荡膜，其设置于所述水介质容器与所述化学试剂振荡膜容器间；

一雾化送风装置，其与所述化学试剂振荡膜容器相连；

所述超声波振荡片用于，产生超声波声能，所述超声波声能通过所述水介质容器中的水和所述振荡膜为介质，作用于所述化学试剂振荡膜容器中的化学试剂，使所述化学试剂雾化为均匀雾滴，所述均匀雾滴进入所述潜在痕迹显现箱，并沉降于所述潜在痕迹显现箱中的潜在痕迹表面。

较佳的实施方式中，还包括一空气循环设备，其设置于所述的潜在痕迹显现箱中。

较佳的实施方式中，所述的空气循环设备为一循环风扇。

较佳的实施方式中，还包括一出风机构，其设置于所述的潜在痕迹显现箱中。

较佳的实施方式中，所述出风机构为活性炭出风机构。

与现有技术相比，本发明所带来的有益效果在于：

1、本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，拓展了多种潜在痕迹化学显

现试剂的使用范围，其通过将显现试剂雾化成0.5～3um的均匀雾滴并沉降于潜在痕迹表面，解决了传统的涂液模式如喷涂、浸泡、擦拭等对指纹和字迹的扩散、检材的污染、涂液不均匀、药液浪费、操作繁琐等缺点。

2、本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，具有较高的提取率灵敏度，非接触法显现无破坏性，操作成功率高，不损失细节特征，提取显现的痕迹原物大、特征清晰不变形；

3、本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，适用范围广泛，可以适用于常见的疑难潜在痕迹，如不平整表面、油污表面、地板蜡表面的潜在痕迹以及微量灰尘足迹、水渍足迹和减层灰尘足迹等；

4、本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，与常规方法形成较好的互补，对于灰尘痕迹，可作为拍照、静电吸附和胶带粘取后的二次处理方法；

5、本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，操作简便快速，由于雾量大，可快速的均匀分布在潜在痕迹表面，与痕迹发生反应，即熏即见，容易控制并可多次熏显，易于建立标准化操作方法；

6、本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，使用其显现的潜在痕迹可长期保存，分布区域不扩散，当痕迹与背景的反差随时间变化而弱化时，可使用试剂增加反差，不改变痕迹的细节特征；

7、本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪，在密闭容器中熏显，对环境和人体健康不产生污染和毒害性。

附图说明

图1为本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪的结构示意图；

图2为本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪一实施例示意图。

附图标记说明：1-超声波雾化机构；2-潜在痕迹显现箱；11-水介质容器；12-化学试剂振荡膜容器；13-超声波振荡片；14-雾化送风装置；21-循环风扇；22出风机构；3-导管；4-振荡膜；5-潜在痕迹。

具体实施方式

以下结合附图，对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。

参阅图1，为本发明潜在痕迹多功能超声波雾化熏显仪的结构示意图，其包括一超声波雾化机构1及一潜在痕迹显现箱2，所述的超声波雾化机构1通过导管3与所述的潜在痕迹显现箱2相连通。