[发明专利]一种低硫氧化铬绿的清洁制备方法有效
| 申请号： | 200910091460.9 | 申请日： | 2009-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101993112A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 徐红彬;李平;张懿;李佐虎 | 申请（专利权）人： | 中国科学院过程工程研究所 |
| 主分类号： | C01G37/033 | 分类号： | C01G37/033 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100080 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化铬 清洁 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种低硫氧化铬绿的清洁制备方法，包括如下步骤：
在一定温度下，将铬盐与还原气体一起反应一定时间；冷却后，将反应混合物用水洗涤、过滤、干燥得到中间产物，中间产物进行球磨，水热浸出得到浸出产物，浸出产物在保护性气氛下煅烧，得到低硫氧化铬绿和副产物不含铬氢氧化钠溶液。
2.权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述的铬盐为铬酸盐或重铬酸盐：所述的铬盐为铬酸钠，所述的铬盐为重铬酸钠。
3.权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述的还原气体为氢气、天然气、煤气、氨气、甲烷或者它们的混合物。
4.权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述的还原温度为300～800℃，还原时间为0.5～5h。
5.权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述球磨过程为干磨过程，转速为0～500rpm/min，球磨时间为0～5h，球料比为1～30∶1。
6.权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述的水热浸出温度为100～250℃，水热浸出时间为0～30h。
7.权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述的煅烧气氛为氮气，氩气，二氧化碳气体或者它们的混合物，煅烧温度为600～1300℃，煅烧时间为0～3h。
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