[发明专利]一种无/低磁性立方织构Ni-W合金基带的制备方法有效
申请号: | 200910091891.5 | 申请日: | 2009-08-28 |
公开(公告)号: | CN101635185A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 高忙忙;索红莉;高培阔;赵跃;马麟;王建宏;刘敏;邱火勤 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B12/06;C22C19/03;C22C1/04;C22F1/10 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 沈 波 |
地址: | 100124*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁性 立方 ni 合金 基带 制备 方法 | ||
1.一种无/低磁性立方织构Ni-W合金基带的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)在保护性气氛中,将纯度为99.9%的Ni粉和纯度为99.9%的W粉按照W原子占Ni原子和W原子总数的9%~12%混合后,球磨2~4h,得到高W合金粉末;在保护性气氛中,将纯度为99.9的Ni粉和纯度为99.9的W粉按照W原子占Ni原子和W原子总数的5%~7%混合后,球磨2~4h,得到低W合金粉末;将高W合金粉末和低W合金粉末按照低W合金粉末-高W合金粉末-低W合金粉末的顺序装入模具中压制,低W合金粉末-高W合金粉末-低W合金粉末的体积比为1∶1~3∶1,而后经放电等离子烧结制备初始坯锭,烧结温度为800-1000℃,烧结时间3-8min;
2)将初始坯锭进行冷轧,道次变形量小于5%,总变形量大于99%,最终获得50μm~100μm厚的冷轧基带;
3)将冷轧基带在保护性气氛中进行分级热处理,首先在650℃~750℃保温30min,然后升温至1100℃~1200℃保温30min~60min后将温度升至1300℃~1450℃保温60min~240min,得到无/低磁性立方织构Ni-W合金基带。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的保护性气氛为Ar与H2的混合气体,混合气体中,H2的体积百分比为4%。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910091891.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。