[发明专利]液晶显示面板及其制造方法无效
申请号: | 200910092045.5 | 申请日: | 2009-09-07 |
公开(公告)号: | CN102012575A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 闵泰烨;王章涛;邱海军;高文宝 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/1362;G02F1/1368;G03F7/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术,尤其涉及一种液晶显示面板及其制造方法。
背景技术
液晶显示面板主要由阵列基板、彩膜基板、液晶等构成。其中,阵列基板与彩膜基板贴在一起形成液晶成盒基板,中间填充有液晶形成液晶层。液晶层的厚度,也称为盒厚,会对液晶的光调节作用产生很大影响。因此,在液晶显示器的制造过程中,保证盒厚的均一性是实现高品质液晶显示的基础。
为了保证盒厚的均一性,现有技术主要采用放置隔垫物的方法。通常隔垫物的材料为树脂,树脂形成的隔垫物具有一定的弹性,在变形后能够恢复到原来的形状。目前,在手机和笔记本电脑中常用到触摸式液晶显示面板,当对液晶显示面板施加压力时,隔垫物会发生变形。采用树脂形成的隔垫物经过反复的变形或者受到较大外力的时候,隔垫物自身会发生无法恢复的形变,有时甚至发生破损,这样会影响盒厚的均一性,造成显示不良。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术存在的问题,提供一种液晶显示面板及其制造方法,能够使得隔垫物经过反复变形后依然能够完全恢复形状,不会发生破损,从而能够避免由于隔垫物变形或破损导致的盒厚均一性问题和显示不良问题。
为实现上述目的,本发明提供了一种液晶显示面板,包括阵列基板和彩膜基板,所述阵列基板和彩膜基板之间设置有由形状记忆聚合物形成的隔垫物。
其中,所述隔垫物为柱状隔垫物。
所述形状记忆聚合物为聚甲基丙烯酸甲酯;聚降冰片烯;环戊烷亚甲基;具有链段化结构的聚氨基甲酸酯、聚乙烯、聚环氧乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚氯乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物;玉米油;苯乙烯和二乙烯基苯的聚合物;改质的环氧树脂。
所述隔垫物的一端形成在所述彩膜基板上,另一端顶设在所述阵列基板上;或者所述隔垫物的一端形成在所述阵列基板上,另一端顶设在所述彩膜基板上。
本发明还提供了一种液晶显示面板制造方法,包括:
步骤101、在阵列基板或彩膜基板上沉积一层形状记忆光刻胶,所述形状记忆光刻胶通过在形状记忆聚合物中添加能够使所述形状记忆聚合物进行光反应的光聚合物开始剂形成;
步骤102、采用掩模板对所述形状记忆光刻胶进行构图工艺,形成隔垫物的图形;
步骤103、将所述阵列基板和彩膜基板对盒,注入液晶,形成液晶显示面板。
其中,所述光聚合物开始剂为邻叠氮萘醌光敏剂,或二丙烯酸和双酐交替缩聚得到的感光性聚酯纤维。
所述步骤101具体可以为:在形成有透明电极的彩膜基板上沉积一层形状记忆光刻胶,或者在形成有像素电极的阵列基板上沉积一层形状记忆光刻胶。
本发明提供的液晶显示面板及其制造方法,隔垫物的材料采用形状记忆聚合物,能够使得隔垫物经过反复变形后依然能够完全恢复形状,并且由于形状记忆聚合物形状恢复速度快,使得隔垫物能够在变形后迅速恢复到原来的形状,对于触摸式液晶显示器,能够避免由于隔垫物形状恢复速度慢导致的漏光等问题;另外,由于形状记忆聚合物本身耐久性较好,这样,隔垫物在受到较大外力作用时,也不易发生破损,能够避免由于隔垫物变形或破损导致的盒厚均一性问题和显示不良问题。
下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
图1a为本发明液晶显示面板第一实施例的平面图;
图1b为图1a中C-C向剖面图;
图2所示为本发明液晶显示面板制造方法流程图。
具体实施方式
本发明提供一种液晶显示面板,包括阵列基板和彩膜基板,阵列基板和彩膜基板之间设置有隔垫物,隔垫物的材料为形状记忆聚合物(shape memory polymer)。
形状记忆聚合物可以是软段(soft segment)和硬段(hard segment)组成的高分子物质。高分子内的分子链在温度降低到转移温度以下时,形状固定。再次加热到转移温度以上时,聚合物内具有取向的分子链会回到原来的形态。硬段是确定形状记忆聚合物的形状特性的物质,软段是用于自由吸收外力的物质。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910092045.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:在对等通信系统中选取参数
- 下一篇:JNK的嘧啶基吡啶酮抑制剂