[发明专利]一种等离子体处理设备及方法有效
| 申请号： | 200910093054.6 | 申请日： | 2009-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN102024658A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张天舒;陈源 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 设备 方法 | ||
1.一种等离子体处理设备，包括工艺腔室、设置工艺腔室内的上电极和下电极，其特征在于，在所述上电极和下电极之间设置有栅网，所述栅网连接有周期性变化的脉冲电压和/或交流电压，所述脉冲电压和/或交流电压的参数皆可被调节以改变等离子体参数。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述脉冲电压的波形包括方波、三角波。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述脉冲电压的参数包括脉冲幅度、上升时间、下降时间、脉冲周期、占空比、正脉冲宽度、负脉冲宽度。
4.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述交流电压的波形包括正弦波、余弦波。
5.根据权利要求4所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述交流电压的参数包括角频率、幅值、有效值、平均值。
6.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述栅网的网格尺寸根据等离子体空间的德拜长度而定。
7.一种等离子体处理方法，用以改善工艺腔室内的等离子体特性，其特征在于，包括下述步骤：
10)在工艺腔室内的上电极和下电极之间设置栅网；
20)将注入工艺腔室的工艺气体激发为等离子体，同时，为所述栅网连接脉冲电压和/或交流电压；
30)借助所述等离子体进行相应加工工艺，调节所述脉冲电压和/或交流电压的参数以改变等离子体参数。
8.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于，所述脉冲电压的波形包括方波、三角波。
9.根据权利要求8所述的等离子体处理方法，其特征在于，所述脉冲电压的参数包括脉冲幅度、上升时间、下降时间、脉冲周期、占空比、正脉冲宽度、负脉冲宽度。
10.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于，所述交流电压的波形包括正弦波、余弦波。
11.根据权利要求9所述的等离子体处理方法，其特征在于，所述交流电压的参数包括角频率、幅值、有效值、平均值。
12.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于，所述栅网的网格尺寸根据等离子体空间的德拜长度而定。
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