[发明专利]2,3-二氟苯乙酸合成的制备方法有效
申请号: | 200910096369.6 | 申请日: | 2009-02-23 |
公开(公告)号: | CN101486638A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 钟建新;何人宝;王莺妹;章正秋;金逸中;邵鸿鸣 | 申请(专利权)人: | 浙江永太科技股份有限公司 |
主分类号: | C07C57/58 | 分类号: | C07C57/58;C07C51/14 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 | 代理人: | 刘晓春 |
地址: | 317016浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 苯乙酸 合成 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属化合物合成,主要涉及2,3-二氟苯乙酸合成制备的新方法。
背景技术
随着薄膜晶体管(TFT)液晶显示技术的不断进步,液晶显示材料也越来越 受到广泛的关注,对液晶材料的要求也越来越高,不仅要求具备高的化学稳定性、 宽液晶相区,而且必须具有高电压保持率、高电阻、较高的介电各向异性、低旋 转黏度等特性,以满足动态视频显示的需要。近年来日本开发的多种新型液晶材 料颇受瞩目,特别是由日本大日本油墨化学株式会社开发的含氟萘酚体结构液晶 材料是除联苯环结构和环己基结构外新型的TFT液晶材料结构体。在日本专利 公开2001-31597号公报中,介绍了几种能够提供介电常数为负的以1,7,8-三氟萘 -2,6-二基的萘酚体结构液晶化合物开发情况,对调节液晶屏幕视角狭小能起到 重要作用,并且有较好的发展趋势。它们都是由中间体1,7,8-三氟萘酚作为主体 骨架来制备的。
在日本专利中详细介绍了有关该中间体的制备方法,所用的起始原料均为 2,3-二氟苯乙酸。基本的路线如下:
作为重要原料的2,3-二氟苯乙酸有多种合成工艺,在美国专利68970067介 绍可以通过将溴苯制成格氏试剂和溴乙烷反应,再用氧化剂氧化得到苯乙酸的路 线。反应如下:
这个方法中用到的原料大部分比较贵,特别是氧化剂高碘酸钠,催化剂三氯化钌 等。而且由于原料的化学结构,制成的格氏试剂不稳定,产品中杂质不易控制, 最终影响产品质量。美国专利6395921中也报道了用丙二酸二酯在碱作用下和溴 苯反应后经脱羧、水解后得到苯乙酸。此法总收率较低,不适合工业化。并且这 两条路线的起始原料2,3-二氟溴苯的合成成本很高,会造成2,3-二氟苯乙酸成本 上升,缺乏竞争优势。
国内有报道以邻二氟苯为原料通过格氏反应得到2,3-二氟苯甲醛,用硼氢化 钾还原为2,3-二氟苯甲醇,再经氯化亚砜生成2,3-二氟苄氯,用氰化钠取代后生 成2,3-二氟苯甲腈,最后水解氰基生成2,3-二氟苯乙酸。路线如下:
此路线每步的收率较为理想,但是此反应路线长,并且在反应过程中将大量使用 剧毒的氰化钠,后期有毒废水和废酸处理较难,不仅给环保带来压力,也存在重 大安全隐患。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种新的2,3-二氟苯乙酸合成的制备方 法,在工艺上避开存在安全问题较大的氰化和污染较大的水解步骤。为此,本发 明采用以下技术方案:其工艺路线为以2,3-二氟甲苯为起始原料,通过光卤化得 到2,3-二氟苄卤,再以羰基化反应直接从2,3-二氟苄卤生成2,3-二氟苯乙酸。
在光卤化反应中采用氯气或溴素为卤化剂,溶剂可用四氯化碳或不用溶剂在 紫外光源下直接反应。该步反应一般进行3-5小时,在卤化剂的选取用上,因为 溴素成本价格比氯气高很多,收率反而稍低,所以优选的卤化剂为氯气,2,3-二氟 甲苯与氯气物质的量之比为1∶1.0-1.1摩尔比,溶剂优选为四氯化碳,2,3-二氟甲 苯与四氯化碳质量用量为1∶5-10,本步反应是在液态下进行,原则上,反应温 度条件只要满足于此即可,温度可以在-10~70℃之间,反应温度过低或过高,, 会造成反应时间过长或副产物较多,影响生产成本,因此,2,3-二氟甲苯与氯气 物质的量之比优选为1∶1.0摩尔比;反应温度优选为30~40℃;2,3-二氟甲苯与 四氯化碳质量用量的优选比例为1∶8。
2,3-二氟苄氯与一氧化碳在催化剂的作用下进行羰基化反应直接生成2,3-二 氟苯乙酸。在本步反应中所用到的催化剂是四羰基钴盐,如四羰基钴钠、四羰基 钴钾。优选为四羰基钴钠。所用到的溶剂为甲醇、乙醇、乙腈、1,4-二氧六环、 四氢呋喃、苯、甲苯、二氯甲烷、氯仿、乙酸乙酯、DMF、N-甲基吡咯烷酮等, 优选的溶剂为甲醇;2,3-二氟苄氯∶一氧化碳∶氢氧化钠∶四羰基钴钠为1∶1-1.5∶ 1-1.1∶0.015摩尔比,2,3-二氟苄氯与一氧化碳的摩尔比优选为1∶1.3,2,3-二氟 苄氯与氢氧化钠的摩尔比优选为1∶1.1,本步反应是在液态下进行,原则上,反 应温度条件只要满足于此即可,温度可以在-10~80℃之间,反应温度过低或过 高,反应体系中的物质由于运动过慢或过速,会造成反应不完全或副产物较多, 收率比较低而影响生产成本,因此,优选为30-40℃条件下进行。
本发明的反应方程式为:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江永太科技股份有限公司,未经浙江永太科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910096369.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。