[发明专利]一种钨酸镉晶体及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910097707.8 申请日: 2009-04-14
公开(公告)号: CN101538739A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 夏海平;王金浩;虞灿;罗彩香;陈红兵 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: C30B29/32 分类号: C30B29/32;C30B11/00
代理公司: 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 程晓明
地址: 315211浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 钨酸镉 晶体 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种钨酸镉晶体,其特征在于为CdWO4单晶中掺有0.1~2.0mol%的Bi离子的Bi:CdWO4晶体。

2、如权利要求1所述的钨酸镉晶体的制备方法,其特征在于包括以下具体步骤:

(1)将CdO和WO3原料分别单独放置于铂金或Al2O3刚玉坩锅中,经马弗炉焙烧,焙烧温度250~500℃,时间2~4h;

(2)将焙烧后的CdO和WO3按摩尔比1∶1置于碾磨器中,碾磨混合2~6h,然后在压强为9.8×107~9.8×108帕的条件下,把混合粉体压制成致密块体;

(3)将上述致密块体放于铂金坩锅中,在1000~1200℃温度下,烧结2~8小时,得到CdWO4多晶粉料;

(4)将CdWO4多晶粉料置于碾磨器磨成粉末,按Bi离子掺入量为0.1~2.0mol.%加入Bi2O3,碾磨混合10~12h,得到掺有Bi离子的CdWO4多晶粉末;

(5)把掺有Bi离子的多晶粉末压实后置于铂金坩埚中,密封铂金坩埚;

(6)将密封的铂金坩埚置于硅钼棒炉中,用坩埚下降法生长晶体,生长晶体的炉体温度为1330~1380℃,接种温度为1280~1300℃,生长区域温度梯度为20~40℃,下降速度为0.5~2mm/h,待晶体生长结束后,以20~80℃/h下降炉温至室温,得到Bi:CdWO4晶体。

3、根据权利要求1所述的钨酸镉晶体,其特征在于所述的WO3,CdO,Bi2O3均为99.99wt%以上。

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