[发明专利]利用硅纳米颗粒制备高纯多晶硅的方法及装置有效
申请号: | 200910098050.7 | 申请日: | 2009-04-27 |
公开(公告)号: | CN101559945A | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
发明(设计)人: | 皮孝东;杨德仁;韩庆荣 | 申请(专利权)人: | 浙江大学;韩庆荣 |
主分类号: | C01B33/021 | 分类号: | C01B33/021;C30B29/06 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 纳米 颗粒 制备 高纯 多晶 方法 装置 | ||
1.一种利用硅纳米颗粒制备高纯多晶硅的方法,其特征在于,通过抽真空而形成的气流携带硅纳米颗粒从原料腔进入熔化腔,加热熔化腔内的硅纳米颗粒使其熔融形成硅熔体,硅熔体从熔化腔流出后冷却凝固成块状多晶硅,其中,原料腔内的气压是熔化腔的出口端的气压的50~106倍。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的硅纳米颗粒的平均尺寸为1~100纳米。
3.一种用于如权利要求1或2所述的方法中的装置,包括带有真空管路接口(9)的壳体(7),其特征在于,
所述的壳体(7)内设有:
带有进口和出口的熔化腔(5),所述的进口与壳体(7)外部连通;
用于对熔化腔(5)内物料加热的加热装置;
和位于熔化腔(5)出口下方的收集装置(8);
以及,还包括:用于制备硅纳米颗粒的原料腔,原料腔的出料口与熔化腔(5)进口连通,所述的原料腔为顶端带有进气管(1)的管状等离子体腔(2),管状等离子体腔(2)外围设有高频电磁场发射装置,使进入等离子体腔体内的原料气体受激发生成硅纳米颗粒。
4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述的加热装置为设置在熔化腔(5)外围的加热套(6)。
5.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述的等离子体腔(2)的内壁、熔化腔(5)的内壁和收集装置(8)的内壁均带有氮化硅保护膜。
6.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述的等离子体腔(2)与熔化腔(5)沿同一轴线布置。
7.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述的收集装置(8)为石英材质的容器或多晶硅铸造炉。
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