[发明专利]一种太阳能硅单晶的制作方法有效

专利信息
申请号: 200910098437.2 申请日: 2009-05-11
公开(公告)号: CN101565851A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 徐国六 申请(专利权)人: 浙江金西园科技有限公司
主分类号: C30B15/20 分类号: C30B15/20;C30B29/06
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 代理人: 王洪新
地址: 324300*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 太阳能 硅单晶 制作方法
【权利要求书】:

1.一种太阳能硅单晶的制作方法,其特征在于:利用废弃的多晶硅下脚料作为主要原料 来制备太阳能硅单晶,其制作方法包括以下步骤:

第一步:首先对多晶硅下脚料进行分类:

(1)将多晶硅下脚料的头尾料、埚底料、废片料分别放置,

(2)将分置好的多晶硅下脚料按检测类别及电阻率高低进行分类,分为:

N型  电阻率:0.5Ω.cm以下,0.5~1.6Ω.cm,1.6~6Ω.cm及>6Ω.cm四档;

P型  电阻率:0.5Ω.cm以下,0.5~1.6Ω.cm,1.6~6Ω.cm及>6Ω.cm四档;

(3)清洗:将分类好的多晶硅下脚料用酸性溶液清洗浸泡一段时间后,去掉表面杂质, 再用大于15兆的去离子水漂洗10~15分钟;

(4)干燥:将完成表面清洗的多晶硅下脚料进行表面干燥;

第二步:将多晶硅下脚料投入坩埚内进行拉制:

(1)将上述完成表面清洗、干燥的头尾料、埚底料、废片料进行合理的配比后投入单晶 炉的石英坩埚中,头尾料、埚底料、废片料之间的重量配比为:6∶5∶1;

(2)将多晶硅下脚料装入单晶炉后,抽真空、加氩气后,分3~4次升温到1600℃,硅 料完全熔化后,静置挥发1.5~2.5h,启动埚转0.5~1h,停止埚转,再挥发0.5~1h后,进 行试拉制;

(3)a、若试拉制成功,先测量试拉制得到的小段单晶棒的电阻率,电阻率符合要求, 进行正常的拉制,得到最终的太阳能硅单晶;

b、若由于杂质过多、引晶不成功,先拉制一小段多晶棒,粘掉杂质,重新静置挥发0.5~ 2小时后,再进行正常拉制;若再次引晶不成功,直接将拉制得到的多晶棒敲碎后重新酸洗、 配比,重新投炉;

所述的酸性溶液由浓度为40%~47%的氢氟酸和浓度65%~68%硝酸混合而成,其中氢氟酸 和硝酸的重量比为1∶5~6;

所述的头尾料先在酸性溶液中浸润2~5分钟,并翻动;取出硅料,在纯水中翻动漂洗 10~15分钟;用水冲洗酸洗篮里的硅料,待PH值回复到7,取出硅料烘干;

所述埚底料先在酸性溶液中浸润5~12分钟,并翻动;取出硅料,在纯水中翻动漂洗10~ 15分钟;用水冲洗酸洗篮里的硅料,待PH值回复到7,取出硅料烘干;

所述的片料先用水充分冲洗,去除固体杂质;再将清洗过的片料在酸性溶液中翻动1~3 分钟后取出,用清水漂洗、冲洗后烘干。

2.根据权利要求1所述的一种太阳能硅单晶的制作方法,其特征在于:经静置挥发后的 多晶硅下脚料埚转,坩埚转动速度为5~7rad/s。

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