[发明专利]梯度折射率薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种梯度折射率薄膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1)将两种低折射率材料反应前驱体放入原子层沉积镀膜机的第一反应前驱体容器和第三反应前驱体容器，两种高折射率材料反应前驱体分别放入原子层沉积镀膜机的第二反应前驱体容器和第四反应前驱体容器；

2)将原子层沉积镀膜机中的衬底加热到100℃～400℃，抽真空至0.1～1Torr，开启原子层沉积镀膜机；

3)开启原子层沉积镀膜机的第一阀门P1和第三阀门P3，分别通入第一反应前驱体和第三反应前驱体，沉积低折射率膜层1～100循环，得到低折射率膜单层；

4)关闭原子层沉积镀膜机的第一阀门P1和第三阀门P3，开启原子层沉积镀膜机的第二阀门P2和第四阀门P4，分别通入第二反应前驱体和第四反应前驱体，沉积高折射率膜层1～100循环，得到高折射率膜单层；

5)高折射率膜单层和低折射率膜单层形成折射率子层，交替沉积10～100次形成梯度折射率薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种梯度折射率膜层的制作方法，其特征在于，所述的两种高折射率材料前驱体和两种低折射率材料前驱体是金属反应物和氧化气体；金属反应物是氯化钛或氯化硅，氧化气体是水蒸气、氧气或臭氧。

3.根据权利要求1所述的一种梯度折射率膜层的制作方法，其特征在于，所述的衬底是光学玻璃或半导体光电子器件腔面。