[发明专利]一种含钛非晶碳高硬耐磨薄膜无效
申请号: | 200910100211.1 | 申请日: | 2009-06-25 |
公开(公告)号: | CN101596799A | 公开(公告)日: | 2009-12-09 |
发明(设计)人: | 涂江平;李瑞玲;洪春福;刘东光 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | B32B15/04 | 分类号: | B32B15/04;B32B33/00;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 韩介梅 |
地址: | 310027*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 含钛非晶碳高硬 耐磨 薄膜 | ||
【权利要求书】:
1.一种含钛非晶碳高硬耐磨薄膜,其特征是在金属基体上自下而上依次沉积有纯钛底层、碳钛复合梯度过渡层和含钛非晶碳层,含钛非晶碳层中弥散分布着粒径为5~20nm的TiC晶粒,其中碳的原子百分比是74.2at.%~98at.%,钛的原子百分比是2~23.8at.%。
2.根据权利要求1所述的含钛非晶碳高硬耐磨薄膜,其特征是薄膜中纯钛底层厚度为50~100nm,碳钛复合梯度过渡层厚度为100~300nm,含钛非晶碳层厚度为1.3~1.8μm。
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