[发明专利]一种烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液及处理方法

权利要求书

1.一种烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于该抛光液是以水为溶剂，溶液包括

硝酸    400～900ml/L

磷酸    5～40ml/L

硫酸    5～40ml/L

其中所述硝酸的浓度为66～68v％，所述磷酸的浓度为85v％，所述硫酸的浓度为98v％。

2.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于所述抛光液的溶液包括

硝酸    700～900ml/L

磷酸    10～20ml/L    

硫酸    10～20ml/L。

3.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于所述的化学抛光液的温度是25～80℃。

4.根据权利要求3所述的烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液，其特征在于所述的化学抛光液的最佳温度是55～70℃。

5.一种烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于包括下述步骤：

①将钕铁硼永磁体进行碱洗脱脂；

②将烧结钕铁硼永磁体浸入化学抛光液中抛光，所述的化学抛光液以水为溶剂，溶质为硝酸、磷酸和硫酸，使抛光液中硝酸的含量为400～900ml/L、磷酸的含量为5～40ml/L、硫酸的含量为5～40ml/L；在化学抛光时，烧结钕铁硼磁体需要翻动，其浸蚀抛光时间为10～120；

③将化学抛光后的钕铁硼永磁体清洗、活化；

其中所述硝酸的浓度为66～68v％，所述磷酸的浓度为85v％，所述硫酸的浓度为98v％。

6.根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于：所述的抛光时间为60s～90s。

7.根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于：在化学抛光时，钕铁硼永磁体的翻动为间歇翻动，时间间隔为1～3s。

8.据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于：步骤③中的活化分两步进行，a)采用稀硝酸溶液去除氧化膜；硝酸浓度1～6v％，室温下活化时间30～60s；b)在柠檬酸三钠溶液中活化，柠檬酸三钠浓度2～6wt％，在室温下活化60～600s。

9.根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于，活化前、后均进行超声波水洗。

10.根据权利要求5所述的烧结钕铁硼永磁体化学抛光处理方法，其特征在于所述抛光液的溶液包括

硝酸    700～900ml/L

磷酸    10～20ml/L

硫酸    10～20ml/L；

所述抛光液的温度为25～80℃。