[发明专利]用于浸没式光刻机的柔性密封和自适应回收装置有效

专利信息
申请号: 200910101947.0 申请日: 2009-08-20
公开(公告)号: CN101634811A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 傅新;邵杰杰;陈文昱;邹俊;阮晓东;龚国芳 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 林怀禹
地址: 310027浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 用于 浸没 光刻 柔性 密封 自适应 回收 装置
【权利要求书】:

1.一种用于浸没式光刻机的柔性密封和自适应回收装置,包括在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的液体柔性密封和自适应回收装置(2);其特征在于:所述的液体柔性密封和自适应回收装置包括浸没单元上端盖(2E)、浸没单元腔体(2D)、浸没单元工作头(2C)和至少一片随动盘片组成;其中:

1)浸没单元上端盖(2E):

开有提供注液腔(5A)、回收腔(6A)、第一、第二注气压力缓冲腔(7A、8A)各自对外连接通道管路;

2)浸没单元腔体(2D):

由中心孔向外依次开有互不连通的腔体,即分别开有阶梯形的注液腔(5A)、回收腔(6A)和相间分布的第一、第二注气压力缓冲腔(7A、8A),四个腔体分别垂直向上通过浸没单元上端盖(2E)的对应通道与外界供水供气系统连接;

3)浸没单元工作头(2C):

提供浸没单元腔体(2D)中注液腔(5A)、回收腔(6A)和第一、第二注气压力缓冲腔(7A、8A)四个腔体与衬底上表面工作空间的连接通道以及液体回收通道;

由中心孔向外依次开有互不连通的孔阵列通道,分别是开有与注液腔(5A)个数相对应的注液孔阵列(5B),环形的回收槽(10),与回收腔(6A)面积相对应的上表面向内倾斜的回收孔阵列(6B),与回收槽(10)相连通的由内通向浸没单元工作头(2C)外侧的回收通道(11),相间分布的与第二注气压力缓冲腔(8A)相对应的第二注气孔阵列(8B),与第一注气压力缓冲腔(7A)相对应的第一和第三注气孔阵列(7B、7C),浸没单元工作头(2C)下表面径向开有滚动导轨安装槽(13)和与第一和第三注气孔阵列(7B、7C)相连通的垂直随动盘片外侧的环形导向槽(9);

第一,由在同一半径上均匀分布通孔组成注液孔阵列(5B),孔垂直于浸没单元工作面,注液孔阵列(5B)上方与注液腔(5A)相通;

第二,由在不同半径上均匀分布通孔组成回收孔阵列(6B),孔垂直于浸没单元工作面,回收孔阵列(6B)的上端面从外向内倾斜并进行憎水处理,与注液腔(6A)相通;

第三,液体回收槽(10)是分布在回收孔阵列内侧注液孔阵列外侧之间的环形连续槽,四周有回收通道(11)与回收槽(10)相连,回收槽(10)边缘低于回收孔阵列(6B)上端面的内侧边缘;

第四,由在不同半径上均匀分布通孔组成第一、第三注气孔阵列(7B、7C), 孔的方向垂直于浸没单元工作面,注气孔阵列(8B)下表面与导向槽(9)相通,该导向槽(9)与浸没单元工作面呈45°角,注气孔阵列(7B、7C)上表面与第一注气压力缓冲腔(7A)相通;

第五,由在不同半径上均匀分布通孔组成第二注气孔阵列(8B),孔的方向垂直于浸没单元工作面,注气孔阵列(8B)下表面与导向槽(9)相通,该导向槽(9)与浸没单元工作面呈45°角,注气孔阵列(8B)上表面与第二注气压力缓冲腔(8A)相通;

4)随动盘片:

为环状片,上表面为平面,进行过憎水处理的下表面向外向下倾斜,外边缘向内弯曲,外边缘外侧与水平面呈135°,通过安装在滚动导轨安装槽(13)内的滚动导轨与浸没单元工作头(2C)相连。

2.根据权利要求1所述的浸没式光刻机系统中的浸没液体柔性密封和自适应回收装置,其特征在于:所述的随动盘片与浸没单元工作头可相对运动,随动盘片的个数与衬底扫描路径与速度有关,所述的第二注气压力缓冲腔(8A)的个数及分布与随动盘片的个数及分割边界有关。

3.根据权利要求1所述的浸没式光刻机系统中的浸没液体柔性密封和自适应回收装置,其特征在于:所述的浸没单元上端盖(2E)、浸没单元腔体(2D)、浸没单元工作头(2C),三部分构件之间的结合面为平面,采用黏结或者螺栓紧固连接;随动盘片通过安装在滚动导轨安装槽(13)内的滚动导轨与浸没单元工作头(2C)相连。 

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