[发明专利]一种用于提纯硅的除磷熔渣无效
| 申请号： | 200910102782.9 | 申请日： | 2009-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN102020279A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 吴展平 | 申请（专利权）人： | 贵阳宝源阳光硅业有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 贵阳东圣专利商标事务有限公司 52002 | 代理人： | 徐逸心 |
| 地址： | 550014 贵州*** | 国省代码： | 贵州;52 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提纯 磷熔渣 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于提纯硅的除磷熔渣，其特征在于：熔渣是由脱磷剂、助熔剂和助剂组成，脱磷剂是具有强还原性的钙的化合物或含钙的金属合金CaAl、CaSi、CaSiAl、CaSiMg、CaMg、CaC2中的任一种或两种以上，助熔剂为钙的卤化物，助剂为碱土金属的氧化物。
2.根据权利要求1所述的一种用于提纯硅的除磷熔渣，其特征是脱磷剂优选为CaC2或CaSi。
3.根据权利要求1所述的一种用于提纯硅的除磷熔渣，其特征是助熔剂优选为氟化钙。
4.根据权利要求1所述的一种用于提纯硅的除磷熔渣，其特征是助剂优选为氧化钙。
5.根据权利要求1所述的一种用于提纯硅的除磷熔渣，其中所述的脱磷剂、助熔剂和助剂的质量比为3.5～5∶1∶0.5，优选为4∶1∶0.5。
6.按照权利要求1～5之一所述的一种用于提纯硅的除磷熔渣的应用，其特征在于用在真空感应炉上提纯硅去除杂质磷的过程中，在惰性气体保护下进行脱磷的反应。
7.根据权利要求6所述的一种用于提纯硅的除磷熔渣，用于在真空感应炉上提纯硅去除杂质磷的过程中，所述的真空感应炉内坩埚上方处于强还原性气氛。
8.根据权利要求6所述的一种用于提纯硅的除磷熔渣，经过脱磷后的硅，磷含量小于1ppm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵阳宝源阳光硅业有限公司，未经贵阳宝源阳光硅业有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910102782.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：双头鼠标
- 下一篇：分析装置、方法和试剂
