[发明专利]水热法及溶剂热合法制备纳米SiO2的工艺

权利要求书

1、一种水热法及溶剂热合法制备纳米SiO₂材料的工艺，其特征在于按如下步骤进行：

(1)将压缩过滤后的空气和H₂送入水解容器，同时送入高温气化后的SiCl₄到水解容器，SiCl₄、H₂和空气中的氧在水解容器内1400～1800℃环境下进行水解：SiCl₄+2H₂+O₂—>SiO₂+4HCl，反应后SiO₂颗粒极细再与气体形成气溶胶；

(2)将步骤(1)生成的气溶胶SiO₂和HCl一起送入聚集容器，在350～450℃的环境下，SiO₂相互碰撞聚集成颗粒状；

(3)将步骤(2)形成的颗粒状SiO₂和HCl送入旋风分离器进行分离，将颗粒状的SiO₂从旋风分离器分离出来进入脱酸炉；

(4)在颗粒状的SiO₂进入脱酸炉的同时在脱酸炉底部通入湿热空气，湿热空气中水蒸汽的含量质量百分比为0.02～0.08％，进入流量为160M³～200M³/h，温度为350～450℃，SiO₂在脱酸炉脱酸反应，将表面吸附的HCl脱去，得到纳米SiO₂。

2、根据权利要求1所述水热法及溶剂热合法制备纳米SiO₂材料的工艺，其特征在于：所述步骤(1)中水解器采用盘式燃烧器；SiCl₄采用多孔送料器输入水解容器内。

3、根据权利要求1所述水热法及溶剂热合法制备纳米SiO₂材料的工艺，其特征在于：所述步骤(3)中颗粒状的SiO₂和HCl经过3～5个串联在一起的旋风分离器多级分离。

4、根据权利要求1所述水热法及溶剂热合法制备纳米SiO₂材料的工艺，其特征在于：所述步骤(4)中湿热空气内脱酸的SiO₂经过3～5个串联在在一起的脱酸塔多级脱酸，每一个脱酸塔内脱酸8～12分钟。