[发明专利]热塑性基体的超疏水膜无效

专利信息
申请号: 200910103114.8 申请日: 2009-01-21
公开(公告)号: CN101474895A 公开(公告)日: 2009-07-08
发明(设计)人: 李剑;司马文霞;杨庆;赵玉顺;胡琴;舒立春;张志劲;胡建林;章华中;白欢 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: B32B5/16 分类号: B32B5/16;B32B27/14;C08L23/06;C08L23/12;C08L27/06;C08L27/18
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 代理人: 谢殿武
地址: 400044重*** 国省代码: 重庆;85
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 塑性 基体 疏水
【权利要求书】:

1.一种热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:包括热塑性膜基体(1)和超疏水层,所述超疏水层由相间排列并嵌入膜基体的微米级粉粒(2)和纳米级粉粒(3)组成,微米级粉粒(2)和纳米级粉粒(3)在热塑性膜基体(1)表面形成微米级凸起和纳米级凸起;所述微米级粉粒(2)和纳米级粉粒(3)具有低表面能或/和经低表面能物质修饰。

2.根据权利要求1所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:所述微米级粉粒(2)和纳米级粉粒(3)混合粉体粒径为60nm—100μm。

3.根据权利要求2所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:所述微米级粉粒(2)和纳米级粉粒(3)混合粉体粒径为400nm——30μm。

4.根据权利要求3所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:所述微米级凸起凸出表面500nm—30μm,纳米级凸起凸出表面20nm—500nm,相邻微米级凸起之间的间距500nm—100μm。

5.根据权利要求4所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:所述微米级凸起凸出表面500nm—15μm,纳米级凸起凸出表面200nm—500nm,相邻微米级凸起之间的间距500nm—20μm。

6.根据权利要求5所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:具有低表面能的微米级粉粒(2)和纳米级粉粒(3)为聚四氟乙烯微粉和全氟乙丙烯微粉中的一种或者一种以上的混合物。

7.根据权利要求5所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:所述经低表面能物质修饰的微米级粉粒(2)和纳米级粉粒(3)为二氧化硅、二氧化钛、碳酸钙和氧化锌中的一种或者一种以上的混合物,用于修饰的低表面能物质是碳原子个数8~19的烷基氟硅烷偶联剂中的一种或者一种以上的混合物或氟原子个数为6~18的含氟丙烯酸酯中的一种或者一种以上的混合物。

8.根据权利要求6或7所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:所述热塑性膜基体(1)的材料为聚合物,所述聚合物为聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯和聚四氟乙烯中的一种或者一种以上的混合物。

9.根据权利要求6或7所述的热塑性基体的超疏水膜,其特征在于:所述膜基体(1)的材料为聚酰亚胺、涤纶树脂和聚芳枫中的一种或者一种以上的混合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆大学,未经重庆大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910103114.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top