[发明专利]圆形基片的抛光、清洗装置和方法

权利要求书

1.一种用于处理圆形基片的抛光、清洗的装置，包括：

抛光清洗组件，用于对基片进行抛光清洗处理；

基片导向组件，用于引导基片在装置中的传递；以及

基片驱动组件，用于支撑基片及驱动基片旋转；

其中，抛光清洗组件相邻排列，基片导向组件布置在抛光清洗组件的一侧，与抛光清洗组件配合引导基片在装置中的传递，基片驱动组件布置在抛光清洗组件的另一侧。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述的抛光清洗组件做方向相反的旋转运动，且旋转方向可以改变。

3.一种用于处理圆形基片的抛光、清洗的装置，包括：

圆柱形抛光清洗组件，用于对基片进行抛光清洗处理；

基片导向组件，用于引导基片在装置中的传递；以及

基片驱动组件，用于支撑基片及驱动基片旋转；

其中，圆柱形抛光清洗组件以一定角度交叉排列，基片导向组件布置在圆柱形抛光清洗组件的一侧，与圆柱形抛光清洗组件配合引导基片在装置中的传递，基片驱动组件布置在圆柱形抛光清洗组件的另一侧。

4.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述的圆柱形抛光清洗组件做旋转运动，且旋转方向可以分别控制，或同时改变。

5.如权利要求1和权利要求3所述的装置，其特征在于，所述的基片导向组件可做往复转动；或可做往复直线移动，或可固定不动。

6.如权利要求1和权利要求3所述的装置，其特征在于，所述的基片驱动组件可固定不动；或可做往复直线移动。

7.如权利要求1和权利要求3所述的装置，其特征在于，在所述的抛光清洗组件的芯轴中加工出长孔，并沿直径方向加工出多组细孔，供给抛光清洗元件抛光清洗液体。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，所述的抛光清洗元件的材料选自多孔聚合材料：包括聚乙烯醇聚合物(PVA)、聚氧乙烯聚合物、丙烯酸聚合物、聚醚聚合物、聚苯乙烯酸聚合物，或柔性多孔泡沫塑料：包括氟橡胶、硅橡胶、磷腈橡胶、聚氨酯橡胶。

9.如权利要求1和权利要求3所述的装置，还包括：

基片导入组件，用于从基片传送组件导入基片至抛光清洗组件中；

基片导出组件，用于从抛光清洗组件中导出基片至基片传送组件；

抛光清洗液体注入组件，用于供给抛光清洗组件和基片抛光液体和清洗液体；

基片提升组件，用于推动基片向上移动，从抛光清洗组件中退出；

其中，抛光清洗液体注入组件以倾斜基片一定角度布置在基片的上方或下方两侧；基片提升组件布置在基片驱动组件之间。

10.如权利要求9所述的装置，其特征在于，所述的基片导入组件由沿基片导入方向布置的引导基片的基片导向块和基片助推组件构成；

或由基片取放组件构成，基片取放组件沿直线移动至抛光清洗组件，通过基片取放组件的夹紧与放松将基片导入。

11.如权利要求9所述的装置，其特征在于，所述的基片导出组件由沿基片导出方向布置的引导基片的基片导向块构成；

或由基片取放组件构成，基片取放组件沿直线移动至抛光清洗组件，通过基片取放组件的夹紧与放松将基片取出。

12.如权利要求9所述的装置，其特征在于，在所述的基片提升组件上安装抛光清洗元件，可对基片外周边缘进行抛光清洗处理。

13.一种用于处理圆形基片的多基片多抛光清洗组件多列的抛光、清洗的装置，包括：

数个多基片抛光清洗组件，用于对基片进行抛光清洗处理；

数个多基片导向组件，用于引导基片在装置中的传递；以及

数个多基片驱动组件，用于支撑基片及驱动基片旋转，

其中，多基片抛光清洗组件依次排列，多基片导向组件布置在抛光清洗组件的一侧，与多基片抛光清洗组件配合引导基片在装置中的传递，多基片驱动组件布置在抛光清洗组件的另一侧。

14.如权利要求13所述的装置，其特征在于，相邻多基片抛光清洗组件做方向相反的旋转运动、且旋转方向可以改变。

15.如权利要求13所述的装置，其特征在于，所述的多基片抛光清洗组件由多个抛光清洗元件在抛光清洗组件的芯轴上相邻排列构成。