[发明专利]透明导电膜玻璃的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及导电玻璃的制作方法，更具体地说，涉及一种薄透明导电膜玻 璃的制作方法。

背景技术

透明导电膜玻璃被大量应用于平板显示器件及新型触摸屏器件中。目前， 平板显示行业对显示器件的整体要求不断提高。在继续注重显示性能的同时不 断向轻便时尚的方向发展。更轻、更薄成为显示行业技术发展的新热点。在此 前提下，作为平板显示器件中一个重要组件的氧化铟锡透明导电膜玻璃，其整 体制作的轻薄化即显得尤为重要。同时，作为一种便捷输入方式，电阻式触摸 屏的应用越来越广泛。电阻式触摸屏是由一对相距几十微米的透明导电膜及其 透明载体构成，这种透明载体可以是平板玻璃或高分子薄膜基板。当笔尖或手 指等硬物触摸触摸屏幕时，两层导电层在触摸点位置就有了接触，同时产生相 应的电信号。电阻式触摸屏从结构上可划分为薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/ 玻璃几大类型。其中玻璃/玻璃型电阻式触摸屏以其优良的稳定性被广泛应用 于车载、军用等显示领域。为了保证玻璃/玻璃型触摸屏的外侧玻璃结构能够 被外界触摸体轻松地按压变形而发送电信号，外侧透明导电膜玻璃基板必须足 够薄。目前，一般采用的是厚度小于0.3毫米的超薄玻璃，业内普遍应用的是 0.21毫米的超薄玻璃。

综上所述，当前无论是平板显示器件还是电阻式触摸屏器件，都对作为其 重要组件的透明导电膜玻璃基板提出了新的轻薄性需求。超薄透明导电膜玻璃 的传统的制作方法是，先制作0.21毫米厚度的平板玻璃基板，然后在上述玻 璃基板表面镀透明导电膜。然而该方法存在严重的缺点，首先厚度小于0.3毫 米素玻璃制造难度极高，其次厚度小于0.3毫米素玻璃真空镀膜难度极高，在 目前广泛使用的真空镀膜机上镀膜时如此薄的玻璃破损率很高。特殊的专用镀 膜机采用卧式方法在传送胶辊的间隙对薄玻璃下表面镀膜，玻璃传送带及胶辊 设计复杂，工艺及温度要求苛刻，利用率低，生产效率低，不易大规模生产， 从而镀膜费用也大大高于0.4毫米或以上的玻璃。因此，现有厚度小于0.3毫 米的透明导电膜玻璃生产成本十分昂贵。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术中薄透明导电膜玻璃生产成 本高昂的缺陷，提供一种低成本、高成品率的透明导电膜玻璃制作方法。

本发明解决上述技术问题采用的技术方案是：提供一种透明导电膜玻璃的 制作方法，包括如下步骤：

(a)在厚素玻璃基板的一面镀以透明导电薄膜；

(b)对厚素玻璃基板在步骤(a)中镀了透明导电薄膜的面进行保护；

(c)对厚素玻璃基板的另一面进行蚀刻减薄；

(d)去除步骤(b)形成的保护，即制得超薄透明导电膜玻璃。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，所述步骤(a)中的厚素 玻璃是0.4毫米至1.1毫米厚的玻璃。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，所述步骤(b)中的保护 采用如下方式之一：抗腐蚀油墨涂布、光刻胶涂布、胶带贴附、或者抗蚀刻膜 材贴合。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，所述步骤(c)中的蚀刻 减薄方法为浸泡蚀刻或喷淋蚀刻。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，所述步骤(b)中的保护 采用真空吸盘保护装置。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，所述步骤(c)中的蚀刻 减薄方法为喷淋蚀刻。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，所述步骤(d)中的超薄 透明导电膜玻璃厚度为0.10毫米至0.25毫米。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，所述厚素玻璃是钠钙玻璃 或硼硅玻璃。

在本发明所述的透明导电膜玻璃的制作方法中，还包括：将制得的超薄透 明导电膜玻璃的蚀刻面进行充分清洗。

实施本发明的透明导电膜玻璃的制作方法，具有以下有益效果：

(1)传统超薄素玻璃(0.25毫米以下)加工工艺复杂，价格昂贵，本发 明采用价格较低的厚玻璃(0.4毫米以上)作为基础进行镀膜加工，再减薄到 0.25毫米以下，降低了原料成本；

(2)玻璃基板先镀膜加工再进行化学蚀刻，因此镀膜基板厚度可以达到 0.4毫米以上，可以避免镀膜中玻璃破损，提高产品良率；