[发明专利]陶瓷砖的制造工艺、实施其工艺的专用设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种陶瓷砖的制造工艺、实施其工艺的专用设备。

背景技术

CN200510100123.3中公开了“一种仿石抛光砖及其生产方法”。它的目 的是提供一种所制造出来的瓷砖表面图案具有天然石材所具有的玉石般质 感的、立体效果的仿石抛光砖及其生产方法。其技术构成：所述仿石抛光 砖，由主要含有SiO₂、Al₂O₃、MgO、K₂O、Na₂O的透明配方粉料及传统陶瓷粉 料经多管布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光制成；其中透明配方粉 料中SiO₂的含量为66％～75％wt，Al₂O₃的含量为16％～25％wt，MgO的含量 为0.6％～2.5％wt，K₂O的含量为0.5％～2.5％wt，Na₂O的含量为4.5～10％wt， 透明配方粉料的含量占90％～50％wt。所述仿石抛光砖的生产方法，依次包 括粉料配制、多管布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光工序，其特殊 之处在于粉料由透明配方粉料和传统陶瓷粉料构成，透明配方粉料主要由 含有SiO₂、Al₂O₃、MgO、K₂O、Na₂O中的一种或一种以上化学成分的一种或一 种以上的物料经球磨、过筛除铁、制粉、陈腐、磨微粉制成。其不足之处 在于：这种抛光砖产品其图案是呆滞的平面花纹图案，缺少立体感觉；极 光系列产品依靠极光抛光设备使陶瓷砖表面产生光泽差异。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术中的不足之处，提供一种表面产 生神似自然极光图案效果的瓷砖制造工艺；本发明的另一目的是提供一种 在制造过程中通过三维运动的磨具，将陶瓷砖的表面进行光泽差异式的抛 光处理形成光图案，且采用了在电机中心轴供水的冷却方式，有效地解决 摩擦过热问题的极光抛光设备。

本发明的目的可以通过以下措施来达到：

这种陶瓷砖的制造工艺，包括：有釉陶瓷砖或无釉瓷质砖，其特殊之 处在于：对烧制的有釉陶瓷砖或无釉瓷质砖的表面进行光差抛光处理，使其 形成神似自然极光效果的光图案；所述光差抛光处理，是对烧制的瓷质无釉 砖、渗花图案砖、多管布料微粉砖、斑点颗粒砖进行有规则的光图案或无 规则的反光光带、光束、光团、光斑图案的极光抛光加工。

本发明的目的还可以通过以下措施来达到：

所述陶瓷砖的制造工艺，该工艺当中使用了如下的工艺设备：由主传 动电机驱动连杆、带动主磨盘做仿形、横向摆动的动力装置，由升降气缸 及相应管路构成的压力机构，由输送带及搭载被抛产品的砖坯输送机构， 抛光机构以及对抛光过程进行冷却的冷却机构；所述冷却机构由抛光机构 中的磨具、磨具中心部位开设的圆孔、套设在磨具圆孔内并与磨具中心孔 壁形成的喷水口贯通的供水管组成；冷却液从供水管注入磨具中心喷水口 进行冷却；与磨具圆孔连通的供水管穿过电机圆柱形空心转子的空心轴； 所述主旋转盘同轴套装的传动齿轮与动力装置对应部位上的齿轮通过啮合 传动。

本发明的目的还可以通过以下措施来达到：

所述陶瓷砖的制造工艺，该工艺当中使用了如下的工艺设备：由主传 动电机驱动连杆、带动主磨盘做具有仿形横向摆动的动力装置、由升降气 缸及相应管路构成的压力机构、由输送带及搭载被抛产品的砖坯输送机构、 冷却机构、抛光机构，所述抛光机构由与电机输出轴同轴安装的主磨盘、 主磨盘上设有的磨具组成所述磨具由一圆形或方形盘片、该盘片圆心开设 的穿孔、该盘片表面呈环状均匀布设的若干磨块或磨粒组成；所述磨具的 转速为500转/分钟～3500转/分钟。

本发明相比现有技术，具有如下优点：

1、采用本发明极光抛光设备生产的光图案陶瓷砖，是对陶瓷砖的表面进 行光差处理，其生产消耗较一般的抛光机节水、节电，很少产生抛光废料。

2、采用本发明的极光抛光设备对被抛砖坯的表面平整度要求较低，因 主旋转盘采用摆动运动方式，其仿形功能强；不像抛光机要经过对砖面刮 平、粗磨、精抛等过程；根据砖形凹凸情况对砖坯表面要刮去0.6-1.2mm， 如此大的刮平切削量无疑是资源和能源的极大浪费，并且还因此产生大量 的抛光废料。