[发明专利]人体可吸收镁合金材料处理方法及镁合金复合层有效
申请号: | 200910107013.8 | 申请日: | 2009-04-28 |
公开(公告)号: | CN101560686A | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
发明(设计)人: | 张德元;陈奕龙 | 申请(专利权)人: | 先健科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | C25D11/30 | 分类号: | C25D11/30;A61L27/58;A61L27/30;A61L27/04 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 人体 吸收 镁合金 材料 处理 方法 复合 | ||
技术领域
本发明属于医疗器械技术领域,尤其涉及一种人体可吸收镁合金材料处理方法及人体可吸收镁合金材料处理方法制得的镁合金复合层。
背景技术
随着医疗技术的发展,生物医用复合材料已成为生物医用材料研究和发展中最为活跃的领域。生物医用材料是一类用于诊断、治疗或对机体细胞、组织和器官进行修复、代替或人工再生的特殊材料,其作用不能为药物所替代。
传统的医用材料在植入后不能被人体吸收。由于植入的材料只需要在一定的时间内发挥作用,而在作用发挥完成后,必须二次手术取出,例如骨科固定器械在骨头功能恢复后,就需要二次手术取出。还有一些传统医用材料虽然可以永久保留在体内,但会带来很多不利影响,例如血管支架在血管塑型完成后,虽然永久保留在人体内,但需要终身服用抗凝血药物,这不仅增加病人经济负担,且这类病人往往血管脆弱,抗凝药会导致血管破裂时的严重后果,且支架的存在使得病人不能进行一些必须的医学检查和治疗,如MRI(nuclear magneticresonance imaging,核磁共振成像)、磁疗等。永久性植入金属材料还可能给人体带来长期的内皮功能不全,内皮化延迟,血栓形成,永久性物理刺激,局部反应的慢性炎症,被植入组织和非植入组织运动行为不匹配,以及对后期血管再成形手术的不利等等问题。
为解决上述问题,人们开始寻找可被人体吸收的金属支架,Mg作为一种活泼金属,它是人体的营养元素,人体每天摄入量在300-400mg左右,本身可以作为药剂防止血管再狭窄,是一种比较理想的生物可吸收材料。但是,研究发现镁合金支架在人体内腐蚀的速度过快,使得血管在塑型之前塌陷或断裂,失去作为血管支撑的作用。因此,目前一般对镁合金支架进行表面处理再使用,现有的处理方法是在不大于200v的电压下对镁合金支架进行微弧氧化处理,使镁合金支架表面形成微弧氧化膜层,并在微弧氧化膜层上喷涂可降解高分子材料,这样,以期延长镁合金支架的腐蚀时间。但是,这样处理后形成的微弧氧化膜层太厚,容易脱落,因而并不能真正达到延长镁合金支架腐蚀时间的目的。
发明内容
本发明实施例的目的在于提供一种人体可吸收镁合金材料处理方法,旨在解决目前人体可吸收镁合金材料腐蚀速度过快的问题。
本发明实施例的另一目的在于提供一种采用上述处理方法制得的镁合金复合层。
本发明实施例人体可吸收镁合金材料的处理方法包括如下步骤:
(1)将镁合金生物可吸收材进行清洗,去除表面污染物;
(2)将人体可吸收镁合金材料置入含有硅的电解质溶液中,在电压为>200V且≤600V的条件下进行微弧氧化处理30秒~60分钟,致人体可吸收镁合金材料表面形成微弧氧化膜层;
(3)将微弧氧化处理后的人体可吸收镁合金材料清洗后干燥。
本发明实施例采用上述处理方法制得的镁合金复合层,包括作为基体的人体可吸收镁合金材料,以及覆盖于基体表面的厚度为0.5-50微米微弧氧化膜层,所述微弧氧化膜层包括里层和外层,里层为氧化镁层,外层为硅酸镁或/和偏硅酸镁的晶态化合物层。
与现有技术相比,上述技术方案采用将人体可吸收镁合金材料置入含有硅的电解质溶液中,在电压为>200V且≤600V的条件下进行微弧氧化处理30秒~60分钟,致人体可吸收镁合金材料表面形成微弧氧化膜层。该微弧氧化膜层厚度仅在0.5-50微米范围内,实践证明这种厚度的微弧氧化膜层不易脱落,真正达到了延长镁合金降解时间的目的。其中,根据需要,厚度为0.5-10微米微弧氧化膜层的人体可吸收镁合金材料主要应用于血管支架,而厚度为1.5-50微米的主要应用于骨钉、骨连接件、脊椎骨盘、缝合用锚、止血钳、止血螺丝、止血板、止血夹等。
附图说明
图1是本发明实施例1提供的微弧氧化膜层的表面形貌;
图2是本发明实施例2提供的微弧氧化膜层的表面形貌;
图3是本发明实施例3提供的微弧氧化膜层的表面形貌。
图4是本发明实施例4提供的膜层厚度随氧化时间和电流密度变化的趋势图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
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