[发明专利]二维设计图形曝光后形变效应补偿方法

权利要求书

1.一种二维设计图形曝光后严重形变效应补偿方法，包括如下步骤：

建立二维设计图形，设定需要补偿的关键尺寸边缘放置误差；

在设计图形上先取一个点作为第一采样点，然后以第一采样点每隔预定间隔取采样点对设计图形进行分割；

用光学接近修正术进行修正和仿真，得出所述采样点的边缘放置误差；

建立标准光学接近修正模型，选取所述采样点中边缘放置误差最接近关键尺寸边缘放置误差的采样点作为补偿边缘放置误差的计算点。

2.根据权利要求1所述的二维设计图形曝光后形变效应补偿方法，其特征在于：所述第一采样点为设计图形边的中心。

3.根据权利要求1所述的二维设计图形曝光后形变效应补偿方法，其特征在于：所述预定间隔为30nm。

4.根据权利要求1所述的二维设计图形曝光后形变效应补偿方法，其特征在于：所述选取的计算点位于设计图形边的1/4处。

5.根据权利要求1所述的二维设计图形曝光后形变效应补偿方法，其特征在于：所述二维设计图形曝光后严重形变效应补偿方法应用在0.13节点的光刻工艺中。