[发明专利]一种标准具及其制作方法无效
| 申请号： | 200910110897.2 | 申请日： | 2009-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101464535A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 陈卫民;吴砺;黄顺宁;邱英;杨建阳;凌吉武 | 申请（专利权）人： | 福州高意通讯有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B1/10;B32B37/12 |
| 代理公司： | 厦门市诚得知识产权代理事务所 | 代理人： | 方惠春;黄国强 |
| 地址： | 350014福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 标准 及其 制作方法 | ||
1.一种标准具，其特征在于：包括
第一基片，其上镀有特定波长反射膜；
光学介质薄层，其镀于所述的第一基片的镀膜面；
第二基片，其上镀有特定波长反射膜，镀膜面通过光胶或深化光胶胶合于所述的光学介质薄层。
2.如权利要求1所述的标准具，其特征在于：所述的光学介质薄层是完整的薄层面，构成实心标准具。
3.如权利要求1所述的标准具，其特征在于：所述的光学介质薄层是中心区域缺失的薄层面，构成空腔标准具。
4.如权利要求1或2或3所述的标准具，其特征在于：所述的光学介质薄层的厚度是微米量级；所述的光学介质薄层的材料是SiO2或其他均匀光学介质。
5.如权利要求1或3所述的标准具，其特征在于：所述的空腔标准具中心区域缺失的空隙内为空气或真空或特定气体。
6.如权利要求1或2或3所述的所述的标准具，其特征在于：所述的标准具的基片非镀膜的外通光面形成一个小楔角，所述的楔角范围约为1′-10′。
7.如权利要求1或2或3所述的所述的标准具，其特征在于：所述的标准具的基片非镀膜的外通光面镀增透膜。
8.制作如权利要求1或2所述的标准具的方法，其特征在于：
步骤1：先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜；
步骤2：将经过步骤1后的一基片的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层；
步骤3：将所述的光学介质薄层与经过步骤1后的另一基片通过光胶或深化光胶胶合。
9.制作如权利要求1或3所述的标准具的方法，其特征在于：
步骤1：先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜；
步骤2：在镀膜的基片膜表面中心区域垫一块基底；
步骤3：将经过步骤2后的一基片的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层；
步骤4：除去基片膜表面中心区域的基底；
步骤5：将所述的光学介质薄层与经过步骤1后的另一基片通过光胶或深化光胶胶合。
10.制作如权利要求1或3所述的标准具的方法，其特征在于：
步骤1：先制作基片，并在基片上镀特定波长的高反膜或部分反射膜；
步骤2：将经过步骤1后的一基片的镀膜面镀一定厚度的光学介质薄层；
步骤3：将基片膜表面中心区域通过光刻方式除去；
步骤4：将所述的光学介质薄层与经过步骤1后的另一基片通过光胶或深化光胶胶合。
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