[发明专利]一种降低激光相干性的方法及其位相调制器

权利要求书

1.一种降低激光相干性的方法，其特征在于：通过调制频率足够高的位相调制器来调制激光相位，使其发生无序的改变，从而降低激光的相干性。

2.根据权利要求1所述的降低激光相干性的方法，其特征在于：所述的调制是横向电光调制效应。

3.根据权利要求1所述的降低激光相干性的方法，其特征在于：所述的调制周期远小于所述激光的相干时间。

4.一种位相调制器，其特征在于：所述的位相调制器是电光位相调制器，电光晶体采用波导结构。

5.根据权利要求4所述的位相调制器，其特征在于：所述的波导结构是所述的电光晶体的上下、左右四个侧面均被折射率低于电光晶体的衬底材料或胶层包围，并在上下两个侧面镀超薄金属膜或导电膜作电极，而形成波导结构。

6.根据权利要求4所述的位相调制器，其特征在于：所述的波导结构是所述的电光晶体的上下两个侧面为胶层、深化光胶层、衬底材料及超薄金属膜或导电膜包围，另外两个侧面为空气，而形成波导结构。

7.根据权利要求4或5或6所述的位相调制器，其特征在于：所述的电光晶体可为双折射电光晶体，也可为各向同性的电光陶瓷。

8.根据权利要求4所述的位相调制器，其特征在于：通过调制入射光的偏振方向或相位来改变入射光的相位差。

9.根据权利要求4-7任一权利要求所述的位相调制器，其特征在于：所述的位相调制器采用透镜或柱面透镜对入射光束进行聚焦或准直。