[发明专利]一种耐高温、超亲水聚苯乙烯多孔膜材料及其制备方法无效
申请号: | 200910111115.7 | 申请日: | 2009-02-25 |
公开(公告)号: | CN101497704A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 李磊;陈财康;张爱娟 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C08J9/28 | 分类号: | C08J9/28;C08J5/18;C08L25/06;C08L25/08;C08L53/00 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耐高温 超亲水 聚苯乙烯 多孔 材料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种高聚物膜材料,尤其是涉及一种耐高温、超亲水聚苯乙烯多孔膜材料及其制备方法。
背景技术
多孔膜的类型涵盖广泛,由于高度有序多孔高聚物薄膜在分离[1.R.E.Kersting,Syntheticpolymer membrane,Wiley,New York,1985]、组织工程[2.V.P.Shastri,I.Martin and R.Langer,Proc.Natl.Acad.Sci.U.S.A.,2000,97,1970;3.T.Nishikawa,J.Nishida,R.Ookura,S.I.Nishimura,S.Wada,T.Karino and M.Shimomura,Mater.Sci.Eng.,C,Biomim.Mater.,Sens.Syst.,1999,8-9,495]、光子晶体[4.M.Imada,S.Noda,A.Chutinan,T.Tokuda,M.Murata,G.Sasaki,Appl.Phys.Lett.,1999,75,316]、微电子[5.M.Imada,S.Noda,A.Chutinan,T.Tokuda,M.Murata and G.Sasaki,Appl.Phys.Lett.,1999,75,316]、催化[6.A.Boker,Y.Lin,K.Chiapperini,R.Horowitz,M.Thompson,V.Carreon,T.Xu,C.Abetz,H.Skaff,A.D.Dinsmore,T.Emrick,T.P.Russell,Nat.Mater.,2004,3,302]和光掩模[7.J.E.G.J.Wijnhoven and W.L.Vos,Science,1998,281,802]等领域的潜在应用,已经引起了高度的关注。很多制备高度有序结构薄膜的方法已经被公开,包括刻蚀[8.P.T.Tanev,M.Chibwe and T.J.Pinnavaia,Nature,1994,368,321]或软刻蚀[9.J.C.McDonald,D.C.Duffy,J.R.Anderson,D.T.Chiu,H.Wu,O.J.A.Schueller and G.M.Whitesides,Electrophoresis,2000,21,27;10.J.A.Rogers,K.E.Paul,R.J.Jackmann and G.M.Whitesides,Appl.Phys.Lett.,1997,70,2658;11.T.W.Odom,J.C.Love,D.B.Wolfe,K.E.Pauland G.M.Whitesides,Langmuir,2000,18,5314]、胶状晶体[12.B.T.Holland,C.F.Blanford andA.Stein,Science,1985,281,538;13.K.M.Kulinowski,P.Jiang,H.Vaswani and V.L.Colvin,Adv.Mater.,2000,12,833;14.S.H.Park and Y.Xia,Chem.Mater.,1998,10,1745]、乳液[15.A.Irnhof and D.J.Pine,Nature,1997,389,94]、自组装共聚物[16.S.A.Jenekhe and X.Chen,Science,1999,283,372;17.M.Lee,M.H.Park,N.K.Oh,W.C.Zin,H.T.Jung and D.K.Yoon,Angew.Chem.Int.Ed.,2004,43,6466]和微相分离嵌段共聚物[18.T.Thurn~Albrecht,R.Steiner,J.DeRouchey,C.M.Stafford,E.Huang,M.Bal,M.Tuominen,C.J.Hawker and T.P.Russell,Adv.Mater.,2000,12,787;19.M.Templin,A.Frank,C.A.Du,A.Leist,A.Zhang,R.Ulrich,V.Schalder and U.Wiesner,Science,1997,278,1795;20.A.S.Zalusky,R.Olayo~Valles,J.H.Wolfand M.A.Hillmyer,J.Am.Chem.Soc.,2002,124,12761]等。最近,Francois等人[21.G.Widawski,M.Rawieso and B.Francois,Nature,1994,369,397]发展了一种制备有序多孔膜的简单方法,即所谓的呼吸图法.在这项技术中,疏水的高聚物溶液在基质上挥发。在高湿度的环境下,气化冷却促进液滴凝聚在气/液界面上.这些液滴陷入溶液表面,并且被稳定.在表面对流和热毛细管力的作用下,冷凝的液滴在彼此凝聚之前通过自组装有序分散在高聚物溶液中.随着溶剂挥发,高聚物包围在液滴的周围.最后,溶剂和水挥发完后,蜂窝状孔将留在高聚物膜上。
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