[发明专利]一种在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法

权利要求书

1.一种在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：该方法采用射频或中高频磁控溅射技术制备装饰膜。

2.权利要求1所述的在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：所征对的塑料衬底材料包括：ABS塑料(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯的三元共聚物)、PMMA有机玻璃(聚甲基丙烯酸甲酯)、PE塑料(聚乙烯)和PP塑料(聚丙烯)等。

3.权利要求1所述的在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：所针对的金属装饰膜包括铬、镍、钛、钨、铝、不锈钢、硬质合金以及金、银、铱、铂、铑等贵金属；硬质装饰膜包括氮化钛、氮铝钛、氮化钨、氮化钨钛、碳化钨、碳化钛、碳氮化钛、碳化硅、类金刚石、钨类金刚石、氮化铝、氮化硅、氧化铝、一氧化钛、二氧化钛等，以及EMI膜、抗静电膜、防幅射膜等。

4.权利要求1或2或3所述的在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：所制备的金属装饰膜呈光亮金属色，硬质装饰膜呈金黄色、黑色、蓝色、银灰色、灰黑色等。

5.权利要求1所述的在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：所采用的铬、镍和钛等金属靶材相对密度高于90％，所采用的氮化钛、碳化钛、碳氮化钛等陶瓷靶材相对密度高于90％，靶材纯度均不低于95％。

6.权利要求1或2所述的在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：对镀膜前的塑料衬底进行化学清理预处理，以去除表面油脂、灰尘。

7.权利要求1或2所述的在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：制备过程中用氮、氩、氧、氦气其中的一种或数种等离子体对塑料表面进行预轰击前处理，以提高金属及硬质装饰膜的附着力；等离子体处理条件为：工作气体为氮气、氩气、氧气、氦气或其混合气体，流量为0.1～200sccm(标准毫升每分钟)，工作压强为0.1～100Pa，处理时间0.1～20分钟。

8.权利要求1或2所述的在塑料衬底上沉积金属或硬质装饰膜的方法，其特征在于：制备过程中用氮、氩、氧、氦气其中的一种或数种高能离子束对塑料表面进行预轰击前处理，以提高金属及硬质装饰膜的附着力。

9.权利要求1所述的制备方法，其特征在于：磁控溅射过程中工作气体为氩气、氮气、氦气、乙炔、甲烷或其中两种或多种的混合气体，气体流量为0.1～200sccm(标准毫升每分钟)，工作压强为0.1～10Pa，衬底温度为低温或室温或低于80℃。

10.权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于：薄膜制备过程中，根据膜层厚度以及镀制前后过程分别施加不同强度的偏压，以提高金属及硬质装饰膜与塑料的结合力，从而防止脱膜。