[发明专利]一种金矿炭浸槽水平布置方式

说明书

技术领域

本发明涉及一种金矿炭浸槽布置方式，尤其是一种金矿炭浸槽水平布置方式。

背景技术

国内金矿浸出槽利用地形、采用阶梯形逐级配置，上下级浸出槽高差约300～500mm，矿浆通过管道自流输送，选定厂址的高差大。如果没有合适的厂址，则应将炭浸槽高架，以保证矿浆自流所需的高差，土建投资费用高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种金矿炭浸槽水平布置方式，该方式在平地建厂的条件下，所有炭浸槽配置在一个标高上，不需要地形高差或将炭浸槽高架，同时保证矿浆能够逐级自流输送。

本发明的技术方案为：一种金矿炭浸槽水平布置方式，设有一个以上的浸出槽，根据矿石特性及浸出浓度，计算相邻浸出槽之间的液位高差，矿浆通过各相邻浸出槽之间的溜槽输送，相邻浸出槽的溜槽高度不同，其相差的高度等于相邻浸出槽液位差的高度，最后一个浸出槽排矿端设有堰板，堰板高度可以调节，以便调节各个炭浸槽的液位高度。

本发明的优点在于：所有炭浸槽集中配置在同一标高上，矿浆采用开口溜槽输送，占地面积小，设备基础费用低，尤其适用于平地建厂。

附图说明

图1为本发明炭浸槽配置平面图；

图2为本发明炭浸槽配置主剖图。

具体实施方式

矿浆首先进入1号炭浸槽，后通过敞口溜槽依次流经2号、3号、4号、5号、6号炭浸槽，同时每个炭浸槽流向都设有旁路，6号炭浸槽排矿端设有堰板，堰板高度可以调节，从而调节各个炭浸槽的液位。