[发明专利]光掩模设计方法以及使用光掩模制造半导体器件的方法

权利要求书

1.一种设计光掩模的方法，包括：

将作为显影仿真目标的显示图案分割成多个子显示图案，所述多 个子显示图案分别被指定多个正交坐标系，所述多个正交坐标系彼此 不正交；以及

通过在与被指定给所述子显示图案的正交坐标系的坐标轴相平行 的方向上移动所述子显示图案的各边，来对所述多个子显示图案中的 每个执行基于模型的光学邻近修正OPC。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述分割包括：

选取所述显示图案的每个边的伸展方向；以及

将所述显示图案分割成所述多个子显示图案，所述多个子显示图 案中的每个具有与所述被指定的正交坐标系的所述坐标轴相平行的各 边。

3.根据权利要求1或2所述的方法，进一步包括：

在执行所述基于模型的OPC之后，检测通过将多个OPC子显示 图案合成所获得的修正后的显示图案的各边中的两个之间的锐角部 分；以及

对于所述检测到的锐角部分，利用补丁图案来对所述修正后的显 示图案进行修正。

4.根据权利要求1或2所述的方法，进一步包括：

在对所述多个子显示图案执行所述基于模型的OPC之后，将终端 部分选择性地添加到所述多个OPC子显示图案中的每个OPC子显示图 案的每个端部，使得所述终端部分具有与被指定给所述子显示图案的 正交坐标系的坐标轴相平行的平行边。

5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括：

将一个子显示图案分割为多个矩形图案，以使得对所述多个矩形 图案中的每个执行所述OPC，其中所述一个子显示图案具有倾斜于被 指定给其它所述子显示图案的所述正交坐标系的所述坐标轴的各平行 边。

6.一种制造半导体器件的方法，包括：

设计光掩模，以产生光掩模数据；

基于所述光掩模数据来生产光掩模；以及

通过使用所述光掩模来制造半导体器件，

其中，所述设计步骤包括：

将作为显影仿真目标的显示图案分割成多个子显示图案，所述多 个子显示图案分别被指定多个正交坐标系，所述多个正交坐标系彼此 不正交；以及

通过在与被指定给所述子显示图案的所述正交坐标系的坐标轴相 平行的方向上移动所述子显示图案的各边，来对所述多个子显示图案 中的每个执行基于模型的光学邻近修正OPC。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述分割包括：

选取所述显示图案的每个边的伸展方向；以及

将所述显示图案分割成多个子显示图案，所述多个子显示图案中 的每个具有与所述被指定的正交坐标系的坐标轴相平行的各边。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中所述设计进一步包括：

在执行所述基于模型的OPC之后，检测通过合成多个OPC子显 示图案所获得的修正后的显示图案的两个边之间的锐角部分；以及

对于所述检测到的锐角部分，利用补丁图案来对所述修正后的显 示图案进行修正。

9.根据权利要求6或7所述的方法，其中所述设计进一步包括：

在对所述多个子显示图案执行所述基于模型的OPC之后，将终端 部分选择性地添加到所述多个OPC子显示图案中的每个OPC子显示图 案的每个端部，使得所述终端部分具有与被指定给所述子显示图案的 所述正交坐标系的所述坐标轴相平行的各平行边。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述设计进一步包括：

将一个子显示图案分割为多个矩形图案，使得对所述多个矩形图 案中的每个执行所述OPC，其中所述一个子显示图案具有倾斜于被指 定给其它所述子显示图案的正交坐标系的坐标轴的各平行边。