[发明专利]投影机曝光装置、曝光方法以及元件制造方法

权利要求书

1.一种投影曝光装置，包括将来自光源的照明光照射于第一物体的照明光学系统与将前述第一物体上的图案像投影于第二物体上的投影光学系统，其中前述光源生成以单一的直线偏光为主成分的状态的照明光，且前述投影曝光装置的特征在于：

前述照明光学系统，配置于前述照明光的光路，且包括圆锥棱镜与双折射构件；

且前述双折射构件，使照射于前述第一物体的特定照明光成为以S偏光为主成分的偏光状态的光。

2.根据权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，前述双折射构件配置于前述圆锥棱镜的附近。

3.根据权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，包括衍射光学元件，配置于前述照明光的光路，使照射于前述第一物体的前述照明光限制为以特定的入射角度范围照射于前述第一物体的特定照明光，

且前述双折射构件使前述特定照明光成为以S偏光为主成分的偏光状态的光。

4.根据权利要求3所述的投影曝光装置，其特征在于，前述双折射构件，配置于前述衍射光学元件与前述圆锥棱镜之间。

5.一种投影曝光装置，包括将来自光源的照明光照射于第一物体的照明光学系统与将前述第一物体上的图案像投影于第二物体上的投影光学系统，其中前述光源生成以单一的直线偏光为主成分的状态的照明光，且前述投影曝光装置的特征在于：

前述照明光学系统，沿着前述照明光的行进方向上顺序地配置，且包括双折射构件与光学积分器；

且前述双折射构件，使照射于前述第一物体的特定照明光成为以S偏光为主成分的偏光状态的光。

6.根据权利要求5所述的投影曝光装置，其特征在于，具备衍射光学元件，配置于前述双折射构件的光源侧，使照射于前述第一物体的前述照明光限制为以特定的入射角度范围照射于前述第一物体的特定照明光，且

前述双折射构件使前述特定照明光成为以S偏光为主成分的偏光状态的光。

7.根据权利要求5所述的投影曝光装置，其特征在于，前述照明光学系统中的前述光学积分器与前述第一物体间，至少配置一枚透镜。

8.根据权利要求5所述的投影曝光装置，其特征在于，前述双折射构件为不均一波长板，使透射光中在平行于进相轴(快轴)的直线偏光成分与平行于迟相轴(慢轴)的直线偏光成分之间给与相位差的偏光间相位差，对于前述双折射构件的位置非线性变化。

9.根据权利要求5所述的投影曝光装置，其特征在于，前述双折射构件关于前述照明光的进行方向的厚度不是定值。

10.根据权利要求9所述的投影曝光装置，其特征在于，前述双折射构件在相对于前述照明光的行进方向上的厚度为连续地变化。

11.根据权利要求9所述的投影曝光装置，其特征在于，前述双折射构件在相对于前述照明光的行进方向上的厚度为阶段地变化。

12.根据权利要求9所述的投影曝光装置，其特征在于，前述双折射构件沿着前述照明光的行进方向上配置有多个。

13.一种曝光方法，其特征在于：使用权利要求1至12任一项所述的投影曝光装置，以作为前述第一物体的掩膜图案，使作为前述第二物体的感光体曝光。

14.一种元件制造方法，包括光刻工艺，其特征在于：

在前述光刻工艺中，使用权利要求13所述的曝光方法，将图案转印于感光体。