[发明专利]剥离片、带剥离片的偏振片以及无基材双面粘结片有效
申请号: | 200910126389.3 | 申请日: | 2009-03-10 |
公开(公告)号: | CN101537726A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 稻男洋一;西田卓生 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | B32B27/08 | 分类号: | B32B27/08;B32B7/06;G02B5/30 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程 伟;王锦阳 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 剥离 偏振 以及 基材 双面 粘结 | ||
技术领域
本发明涉及剥离片、带剥离片的偏振片以及无基材双面粘结片。
背景技术
近年来,LCD技术进步显著,画面不断变大,与此同时背光的辉 度得到提高,所谓高辉度型LCD逐渐普及。在这种LCD中,即使在 构成偏振片等的LCD的各部件中的异物或缺陷等(所谓疵点)很小, 但由于在显示器中出现可视的亮点,所以提高疵点检验精度变得很重 要。
比如,检查偏振片中的疵点,一般是由交叉尼克尔法进行目视检 查,交叉尼克尔法是将两片偏振片在其取向主轴垂直方向重叠处于消 光状态时,如果有疵点就在该处出现亮点,由此就能够由目视进行疵 点检查的方法。
偏振片由胶粘剂粘接在液晶片等其它部件上组装入LCD,但为了 操作简便,在偏振片的一面一般预先贴合有带剥离片的胶粘剂。这样 的偏振片,通常贴付着剥离片由交叉尼克尔法进行目视检查。为此, 公知在剥离片的基材上使用与取向主轴倾角(取向角)很小的薄膜以 使其不妨碍交叉尼克尔法的检查(参照比如专利文献1)。
而公知过去用于偏振片的剥离片的剥离剂层是在基材的一个面上 涂布硅树脂组合物加热硬化形成。在上述硅树脂组合物的主剂中使用 了比如具有乙烯基的有机聚硅氧烷(参照比如专利文献2)。
专利文献1:日本特开2002-172694号公报
专利文献2:日本特开平7-101026号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是,当使用在专利文献2中所述的硅树脂组合物形成剥离剂层 时,为了使剥离剂层的硬化性能变得良好,必须提高硬化温度,但由 于这样的高温加热会使剥离片基材发生热收缩,使得取向角的分布范 围(最大值和最小值之差)发生变化。因此,即使使用取向角分布范 围很小的薄膜作为剥离片基材,也会造成形成剥离剂层之后的剥离片 基材取向角的分布范围变大,剥离片基材会成为通过交叉尼克尔法检 查的障碍,出现无法充分提高检查精度的问题。另一方面,为了抑制 剥离片基材的取向角变化,如果降低硬化时的加热温度,会出现剥离 剂层不能充分硬化,剥离剂层的剥离性能降低的问题。
鉴于这样的问题,本发明的目的是提供在粘接偏振片时通过交叉 尼克尔法进行检查的过程中,能够实现高精度的检查而且剥离性能还 良好的剥离片以及使用这种剥离片的带剥离片的偏振片和无基材双面 粘结片。
解决问题的手段
本发明的剥离片是在剥离片基材的一个面上设有剥离剂层的剥离 片,其特征在于,剥离片基材是单向或双向延伸的聚酯薄膜,剥离剂 层是将含有分子中具有碳原子数为6~10的烯基的有机聚硅氧烷和分子 中具有烯基的MQ树脂的加成反应型硅树脂组合物进行硬化覆膜,同 时在从剥离片上取样的试样中,剥离片基材相对于在任意方向上设定 的直线轴的取向主轴的倾角(取向角)的分布范围(最大值和最小值 之差)为5°以下。
在将所述直线轴设定在上述聚酯薄膜延伸时的长方向或宽方向的 情况下,所述剥离片基材取向主轴的倾角(取向角)的最大值优选为5° 以下。
MQ树脂优选为具有SiO2单元、(CH3)3SiO1/2单元和 CH2=CH(CH2)z(CH3)2SiO1/2单元(式中z表示0~4的整数)结构的硅树 脂。
本发明的带剥离片的偏振片为依次包括偏振片、胶粘剂层和剥离 片的带剥离片的偏振片,该剥离片在剥离片基材的一个面上设有剥离 剂层的同时,剥离剂层与胶粘剂层虚粘接能够与其剥离,剥离片基材 是单向或双向延伸的聚酯薄膜,剥离剂层是将含有分子中具有碳原子 数为6~10的烯基的有机聚硅氧烷和分子中具有烯基的MQ树脂的加成 反应型硅树脂组合物进行硬化覆膜,同时在从所述剥离片上取样的试 样中,剥离片基材相对于在任意方向上设定的直线轴的取向主轴的倾 角(取向角)的分布范围为5°以下。
在将所述直线轴设定在所述聚酯薄膜延伸时的长方向或宽方向的 情况下,所述剥离片基材取向主轴的倾角(取向角)的最大值优选为5° 以下。
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