[发明专利]静电电容膜片真空计和真空处理设备

权利要求书

1.一种静电电容膜片真空计，包括：被设置为面向内部区域的膜片，所述内部区域的压力将要被测量；以及被设置为与所述膜片相对的检测电极和参考电极，所述真空计通过测量所述膜片和所述检测电极之间的静电电容的变化程度来测量所述内部区域的压力，所述真空计包括：

温度测量单元，测量安装有所述静电电容膜片真空计的外部环境的温度，其中，所述温度测量单元被布置在所述静电电容膜片真空计的外壳中；

大气压力测量单元，测量安装有所述静电电容膜片真空计的外部环境的大气压力，其中，所述大气压力测量单元被布置在所述外壳中；

运算单元，基于环境温度和环境大气压力，根据关于预先测量并且被存储在存储单元中的多个静电电容中的至少一个静电电容的信息，计算与安装有所述静电电容膜片真空计的外部环境相对应的静电电容；

静电电容补偿单元，其将测量的静电电容与计算的静电电容相比较，并且基于比较结果来补偿测量的静电电容；以及

输出特性补偿单元，其基于被预先测量并且存储在存储单元中的关于环境大气压力的输出特性来补偿所述特性，

其中，所述静电电容补偿单元基于补偿后的静电电容来计算电压，并且

所述输出特性补偿单元基于补偿后的输出特性，输出由所述静电电容补偿单元计算出的所述电压。

2.根据权利要求1所述的静电电容膜片真空计，其中所述大气压力测量单元包括压力传感器，并且所述温度测量单元包括温度传感器。

3.一种真空处理设备，其包括真空容器，所述真空容器包括根据权利要求1所述的静电电容真空计。