[发明专利]照相机模块无效

专利信息
申请号: 200910126902.9 申请日: 2009-03-05
公开(公告)号: CN101526658A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 吉冈悟;冈部高宽;西本雅志;高桥康孝;市川充;今井聪 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B7/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马高平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 照相机 模块
【权利要求书】:

1.一种照相机模块,包括:

后镜筒;

前镜筒,组装到所述后镜筒上,所述前镜筒和所述后镜筒一起形成容纳 空间;

透镜固定器,固定成像光学系统,并容纳在所述容纳空间中;

引导机构,沿所述成像光学系统的光轴可移动地支撑所述透镜固定器; 和

驱动单元,沿所述成像光学系统的光轴移动所述透镜固定器,所述驱动 单元包括

设置在所述透镜固定器中的磁体;和

面对所述磁体的线圈,

其中,所述后镜筒具有面对所述容纳空间的底壁,

所述线圈包括设置在后镜筒中并位于所述容纳空间中所述光轴的相反 两侧上的第一线圈和第二线圈,

形成所述第一线圈的绕线经由中继线串联电连接至形成所述第二线圈 的绕线,并且

所述中继线具有沿所述底壁的位于与所述容纳空间相反一侧的表面在 所述第一线圈和第二线圈之间延伸的部分。

2.如权利要求1所述的照相机模块,其中,

所述前镜筒具有管形形状,

所述底壁具有配合表面和位于与该配合表面相反一侧的后表面,所述配 合表面在与所述光轴相交的平面内延伸,并与所述前镜筒的后端配合,

所述第一线圈和所述第二线圈中的每一个都具有平板形状,所述平板形 状具有沿形成所述线圈的绕线的缠绕中心轴方向上的薄的厚度、垂直于所述 厚度并沿所述光轴延伸的高度以及垂直于所述厚度和高度的宽度,

所述第一线圈和所述第二线圈设置成使得它们在所述厚度方向上的表 面彼此平行,

切割所述底壁并允许所述绕线通过的切口设置在所述底壁上的位于所 述配合表面内侧的位置上,所述位置面对所述第一线圈和所述第二线圈在所 述宽度方向上位于相同侧的端部,并且

所述中继线包括第一绕线部分、第二绕线部分和连接部分,所述第一绕 线部分是形成所述第一线圈的所述绕线与该线圈分离并穿过对应的切口抽 出到所述后表面上的部分,所述第二绕线部分是形成所述第二线圈的所述绕 线与该线圈分离并穿过对应的切口被抽出到所述后表面上的部分,所述连接 部分在所述后表面上将所述第一绕线部分连接至所述第二绕线部分。

3.如权利要求2所述的照相机模块,其中,

从所述后表面隆起能够抵接所述中继线的挡壁,以防止所述中继线从所 述光轴移开。

4.如权利要求1所述的照相机模块,其中,

所述第一线圈和所述第二线圈中的每一个都具有平板形状,所述平板形 状具有沿形成所述线圈的绕线的缠绕中心轴的方向上的薄的厚度、垂直于所 述厚度并沿所述光轴延伸的高度以及垂直于所述厚度和高度的宽度,

在所述底壁上彼此面对的位置上设置有线圈连接部分,

所述第一线圈和所述第二线圈连接至所述线圈连接部分,使得所述第一 线圈和所述第二线圈在所述厚度方向上的表面彼此平行,

所述线圈连接部分的每一个都包括:

彼此隔开的两个柱,所述两个柱从所述底壁突出并位于所述第一线圈和 所述第二线圈中对应的一个线圈在所述宽度方向上的两端处;

形成在所述两个柱上的线圈按压表面,所述线圈按压表面从所述容纳空 间朝向外部并在相同平面内延伸,所述第一线圈和所述第二线圈中的每一个 线圈在所述厚度方向上的一个表面被压靠在对应的线圈按压表面上;

从所述两个柱之间的所述底壁突出并在所述两个柱之间延伸的直立壁; 和

设置在所述直立壁上并面对所述第一线圈和所述第二线圈在所述厚度 方向上所对应的一个线圈的另一表面的粘接剂填充壁表面。

5.如权利要求4所述的照相机模块,其中,

所述第一线圈和所述第二线圈中的每一个线圈都通过粘接剂连接至对 应的线圈按压表面,使得所述线圈在所述厚度方向的一个表面压靠在所述一 个表面在宽度方向上的两端的所述线圈按压表面上,并且所述第一线圈和所 述第二线圈中的每一个线圈都通过填充在该线圈在所述厚度方向上的所述 另一表面与所述粘接剂填充壁表面之间的填充剂连接至对应的粘接剂填充 壁表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社,未经索尼株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910126902.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top