[发明专利]密封夹具和电镀处理设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种密封夹具或固定件，用于密封气缸内周表面，该气缸内周表面为发动机的气缸体的要被处理的表面，例如，在处理液被引入到气缸内周表面时，该表面要被处理；本发明还涉及一种设置有这样的密封夹具的电镀处理设备，该电镀处理设备用于对气缸内周表面执行预电镀或者电镀处理。 

背景技术

传统地，已知有方法可以在通过将处理液引入到气缸内周表面以在气缸内周表面上执行诸如电镀处理等表面处理的设备中密封气缸体的气缸内周表面。 

例如，在日本专利申请平开公布第8-199390号描述的表面处理设备中，气缸的直径通过重复地扩展密封构件的直径的操作和在气缸内移动包括密封构件的整个密封夹具的操作而被完全地扩展，其后，对气缸内周表面执行密封操作。 

此外，日本专利申请平开公布第8-144082号揭示了一种表面处理设备，其中空气管被扩展以便与气缸内周表面接触，从而密封气缸内周表面。 

然而在日本专利申请平开公布第8-199390号描述的表面处理设备具有以下缺陷。也就是，在调整密封构件的扩展量或调整密封夹具的移动量过程中存在一些缺陷时，要被处理的气缸内周表面会被损坏，或者相对于气缸内周表面的密封位置会偏斜，从而降低了密封位置精度。 

在日本申请平开公布第8-144082号中描述的表面处理设备中，由于空气管的不适当定位，可能不能在扩展期间控制空气管的形状或密封位置。因此，在这种情况下，气缸内周表面的密封位置精度会不适当。 

发明内容

鉴于上述现有技术中遭遇的情况，本发明目的在于提供一种密封夹具和包括这样的密封夹具的电镀处理设备，该密封夹具能够改进要被处理的表面上的密封位置精度。 

根据本发明的一个方面，通过提供一种密封夹具能够实现上述及其他的目的，该密封夹具用于密封气缸内周表面，在将处理液引入到内周表面的时候与作为气缸体的将被处理表面的气缸内周表面接触，该密封夹具包含： 

密封构件，该密封构件由可扩展的材料制成并且具有环圈(ring-buoy)形状； 

密封支撑构件，该密封支撑构件用于支撑密封构件的一侧；和 

密封基部，该密封基部布置成面对密封支撑构件并且适合于支撑密封构件的另一侧， 

其中，当处理液被向内引入时，在密封支撑构件和密封基部的调节作用下，密封构件只在径向上扩展，以与气缸内周表面接触。 

在上述方面的优选实施例中，密封支撑构件或密封基部可以设置有包含用于排出流体的排出孔(blowing-off hole)的流体流动通道，当密封构件在径向上扩展时，排出孔由密封构件关闭，并且当密封构件收缩时该排出孔被开启，密封构件与气缸内周表面的接触状态根据流体流动通道中的压力确定。 

可以想到的是，沿着密封构件的圆周方向形成包括排出孔的多个流体流动通道。 

还可以想到的是，供应到密封构件内部的流体和供应到包括排出孔的流体流动通道的内部的流体为空气。 

根据本发明的另一方面，还提供一种对气缸内表面执行电镀处理的电镀处理设备，该电镀处理设备包括： 

设置有电极支撑构件的设备本体； 

电极，电极由电极支撑构件支撑成可移动； 

安装到电极的密封夹具； 

工件支撑夹具，该工件支撑夹具保持工件；和 

由电极支撑构件支撑的处理液供应构件，该处理液供应构件用于在电极和密封夹具之间供应处理液， 

密封夹具包含： 

密封构件，该密封构件由可扩展的材料制成并且具有环圈形状； 

密封支撑构件，该密封支撑构件用于支撑密封构件的一侧；和 

密封基部，该密封基部布置成面对密封支撑构件并且适于支撑该密封构件的另一侧， 

其中，当处理液被向内引入时，在密封支撑构件和密封基部的调节作用下，密封构件只在径向上扩展，以与气缸内周表面接触。 

在这个方面的优选的实施例中，可以想到，用于密封夹具的密封支撑构件安装在电极上，并且在该密封支撑构件附近形成有连通孔，处理液通过该连通孔在电极内部和气缸内周表面侧之间流入和流出。 

密封支撑构件可以由金属制成并且通过绝缘构件布置在电极上，密封支撑构件具有突起，该突起具有比电极大的外径，并且绝缘盖被安装在突起上。