[发明专利]真空镀膜装置及镀膜方法

权利要求书

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：

一阴极靶材；

多个阳极；

一运送装置，用以放置及移动该多个阳极，使每一阳极依序经过一可操作位置；

一脉冲电弧放电装置，电性连接该阴极靶材与位于该可操作位置的该阳极，用以在该一真空腔体内产生等离子来进行镀膜；以及

一脉冲激光装置，设置于该真空腔体外，用以提供一脉冲激光束至该阴极靶材表面，以作为一等离子触发器。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，该脉冲激光束沿一第一方向对该阴极靶材表面进行扫描。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，该阴极靶材沿一轴作旋转，且该轴的轴向平行该第一方向。

4.根据权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，该多个阳极作直线排列，且该运送装置以步进方式沿一第二方向将每一阳极依序移进/移出该可操作位置。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜装置，其特征在于，该第一方向大体垂直该第二方向。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，该多个阳极作环状排列，且该运送装置以步进方式将每一阳极依序移进/移出该可操作位置。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于，该多个阳极以该阴极靶材为中心作环状排列，且该运送装置以该阴极靶材为轴作旋转。

8.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，该可操作位置与该阴极靶材之间的间距在0.5cm至5cm的范围。

9.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，该多个阳极为条状，且每一阳极长度大体相同于该阴极靶材的长度。

10.根据权利要求9所述的真空镀膜装置，其特征在于，每一条状阳极的截面为圆形、矩形、或多边形。

11.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，该脉冲电弧放电装置的工作电压在50V至1000V的范围。

12.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，该脉冲激光装置包括：KrF准分子激光装置或ArF准分子激光装置。

13.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，该脉冲激光装置包括Nd-YAG固态激光装置。

14.一种镀膜方法，其特征在于，适用于一真空镀膜装置，该真空镀膜装置包括：一阴极靶材、多个阳极、一运送装置，用以放置该多个阳极、以及一脉冲电弧放电装置，耦接于该阴极靶材与该运送装置之间，该方法包括：

以该运送装置将该多个阳极的一第一阳极移进一可操作位置，使该脉冲电弧放电装置电性连接于该第一阳极与该阴极靶材之间；

提供一脉冲激光束至该阴极靶材表面，而触发该第一阳极与该靶材的电弧而形成用于镀膜的等离子；以及

以该运送装置将该第一阳极移出该可操作位置，同时将该多个阳极的一第二阳极移进该可操作位置，使该脉冲电弧放电装置电性连接该第二阳极与该阴极靶材。

15.根据权利要求14所述的镀膜方法，其特征在于，当该第一电极的使用时间到达一既定时间，将该第一阳极移出该可操作位置，同时将该多个阳极的一第二阳极移进该可操作位置。

16.根据权利要求14所述的镀膜方法，其特征在于，当该第一电极所产生的等离子次数到达一既定次数，将该第一阳极移出该可操作位置，同时将该等阳极的一第二阳极移进该可操作位置。

17.根据权利要求14所述的镀膜方法，其特征在于，该脉冲激光束沿一第一方向对该阴极靶材表面进行扫描。

18.根据权利要求17所述的镀膜方法，其特征在于，该多个阳极作直线排列，且该运送装置以步进方式沿大体垂直于该第一方向的一第二方向将每一阳极依序移进/移出该可操作位置。

19.根据权利要求14所述的镀膜方法，其特征在于，该多个阳极作环状排列，且该运送装置以步进方式将每一阳极依序移进/移出该可操作位置。

20.根据权利要求19所述的镀膜方法，其特征在于，该多个阳极以该阴极靶材为中心作环状排列，且该运送装置以该阴极靶材为轴作旋转。