[发明专利]西他沙星缓释微丸及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910127275.0 申请日: 2009-03-17
公开(公告)号: CN101496789A 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 安林 申请(专利权)人: 重庆莱美药业股份有限公司
主分类号: A61K9/16 分类号: A61K9/16;A61K9/22;A61K9/52;A61K31/4709;A61K47/32;A61K47/34;A61K47/36;A61K47/38;A61K47/44;A61P31/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 朱建新
地址: 40133*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 沙星缓释微丸 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种西他沙星缓释微丸及其制备方法。

背景技术

西他沙星(Sitafloxacin)是一种新型口服类喹诺酮抗生素,日本厚生省 批准第一制药三共株式会社(Daiichi Sankyo)的广谱抗生素西他沙星水合物 50mg片和10%细粒剂(sitafloxacin hydrate,商Gracevit)上市,用于严重和 耐药菌引起的细菌感染。对于5000多种临床分离菌株中的大多数革兰氏阴性 菌,西他沙星的活性要强于环丙沙星和氧氟沙星;对肺炎链球菌、耐药性金 黄色葡萄球菌、表皮葡萄球菌、粪肠球菌、假单胞菌等的活性强于司帕沙星、 氟罗沙星和氧氟沙星;西他沙星是其中对肠内杆菌科活性最强的化合物。对 于其他检测的菌株,西他沙星的活性都要强于上述抗生素(包括洛美沙星)。 西他沙星对革兰氏阳性菌的活性是环丙沙星或左氧氟沙星的8-16倍,是妥舒 沙星和司帕沙星的4-8倍。西他沙星对检测的所有厌氧菌的活性最强,其后 依次是克林沙星、曲伐沙星、加替沙星、莫西沙星、左氧氟沙星和环丙沙星。

西他沙星体外抗菌活性的研究表明,其具广谱抗菌作用,不仅对革兰阴 性菌有抗菌活性,而且对革兰阳性菌以及对许多临床常见耐氟喹诺酮类菌株 也有良好杀菌作用。本品口服吸收好、生物利用度大于70%,组织分布广, 在中枢神经系统外的多种组织中的药物浓度均高于血清药物浓度,因此,本 品可望成为治疗呼吸道、泌尿生殖道、腹腔以及皮肤软组织等单一或混合细 菌感染的重要药物。

西他沙星没有其他4-喹诺酮类药物所常见的中枢神经系统不良反应。

西他沙星普通制剂临床治疗需要每日服用2次以上,为减少服药次数, 维持平稳的血药治疗浓度,适宜将西他沙星制剂制备成缓释剂型,现还未见 西他沙星缓释制剂报道。

发明内容

本发明的目的是提供一种西他沙星缓释微丸,缓释微丸是一种分剂量分 散型剂型,使药物生物利用度得到提高,同时减少了对胃肠道的刺激。

另一目的是提供了西他沙星缓释微丸的制备方法,整个方法简单易行, 适于工业生产。

为达到上述第一目的,本发明所提供的技术方案是:一种西他沙星缓释 微丸,包含有缓释含药微丸,所述缓释含药微丸由西他沙星丸芯和缓释包衣 层组成,所述西他沙星丸芯被缓释包衣层所包覆;所述缓释包衣层的重量是 西他沙星丸芯重量的2~100%。

该缓释微丸还包括有含药颗粒,所述含药颗粒的重量百分含量为0.1%~ 50%。

所述西他沙星丸芯由重量份数分别为1-80的西他沙星和20-99的辅料组 成,其中辅料包含乳糖、淀粉、糊精、蔗糖、微晶纤维素、预交化淀粉、羧 甲基淀粉、无机盐类、甘露醇、山梨醇、交联聚维酮、聚维酮、滑石粉、硬 脂酸镁、二氧化硅、交联羧甲基纤维素钠、纤维素衍生物、聚乙二醇、十二 烷基硫酸钠中的一种或几种。

所述西他沙星丸芯为由西他沙星酸盐和辅料组成。

所述缓释包衣层是由丙烯酸树脂、纤维素酯、乙基纤维素、甲基纤维素、 羟丙甲纤维素、苏丽丝、聚乙烯醇、聚烯烃、聚酯、醋酸纤维素、聚氯乙烯、 聚碳酸酯、乙烯醇、乙烯基乙酸酯、乙烯-丙烯聚合物、乙烯-醋酸乙烯共聚 物、羟丙纤维素酞酸酯、醋酸羟丙甲纤维素琥珀酸酯中的一种或几种材质制 作而成。

所述缓释包衣层的制作材质为丙烯酸树脂、羟丙甲纤维素、乙基纤维素、 甲基纤维素中的一种或几种。

所述缓释包衣层还含有增塑剂、致孔剂、抗粘剂、遮光剂中的一种或几 种;

所述增塑剂包括聚乙二醇类、蓖麻油类、聚山梨醇、苯甲酸酯、磷 酸酯、酒石酸酯、枸橼酸酯、醋酸甘油酯、琥珀酸酯、椰子油、邻苯二 甲酸酯中的一种或几种;

所述致孔剂包含聚乙二醇、乳糖、滑石粉、聚维酮、盐类、羟丙甲 纤维素、蔗糖、淀粉、糊精、羟丙基纤维素中的一种或几种;

所述抗粘剂包含滑石粉、硬脂酸镁、二氧化硅、硬脂酸类中的一种 或几种;

所述遮光剂包含二氧化钛、滑石粉中的一种或两种。

所述增塑剂的重量占包衣膜层重量的1-150%;所述抗粘剂为1-200%; 所述遮光剂为5-10%。

所述增塑剂的重量占包衣膜层重量的20-100%;所述抗粘剂为40-150%; 所述遮光剂为5-10%。

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