[发明专利]图案形成材料和图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成材料，其特征在于，具有含以[化1]所表示的第1单元和

以[化2]所表示的第2单元的基体树脂和酸产生剂，

[化1]

[化2]

其中，R₁和R₃是相同或不同，是氢原子、氯原子、氟原子、烷基或含氟原子烷基；R₂是氢原子、烷基、脂环基、芳基、杂环、酯基或醚基，是不由酸而离去的原子或基团；R₄是由酸而离去的保护基；m为0～5的整数；a和b满足0＜a＜1、0＜b＜1和0＜a+b≤1。

2.根据权利要求1中所述的图案形成材料，其特征在于，所述基体树脂是由所述第1单元和所述第2单元经自由基聚合而成。

3.根据权利要求1中所述的图案形成材料，其特征在于，所述基体树脂是在由所述第1单元和所述第2单元被R₄取代前的前体经自由基聚合得到的聚合物中的所述前体上结合R₄所构成的。

4.一种图案形成材料，其特征在于，具有含以[化1]所表示的第1单元、以[化2]所表示的第2单元和以[化3]所表示的第3单元的基体树脂与酸产生剂，

[化1]

[化2]

[化3]

其中，R₁、R₃和R₅是相同或不同，是氢原子、氯原子、氟原子、烷基或含氟原子烷基；R₂是氢原子、烷基、脂环基、芳基、杂环、酯基或醚基，是不由酸而离去的原子或基团；R₄是由酸而离去的保护基；m为0～5的整数；n为0～5的整数；a、b和c满足0＜a＜1、0＜b＜1、0＜c＜1和0＜a+b+c≤1。

5.根据权利要求4中所述的图案形成材料，其特征在于，所述基体树脂是由所述第1单元、所述第2单元和所述第3单元经自由基聚合而成。

6.根据权利要求4或5中所述的图案形成材料，其特征在于，所述基体树脂是在由所述第1单元和所述第3单元经自由基聚合得到的聚合物中所述第3单元的OH基中的一部分H为R₄取代所构成的。

7.一种图案形成方法，其特征在于，具备：把具有含以[化1]所表示的第1单元和以[化2]所表示的第2单元的基体树脂和酸产生剂的图案形成材料涂布在基板上形成抗蚀剂膜的工序、用具有180nm波段以下波长的曝光用光照射所述抗蚀剂膜进行图案曝光的工序、以及对经图案曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；

[化1]

[化2]

其中，R₁和R₃是相同或不同，是氢原子、氯原子、氟原子、烷基或含氟原子烷基；R₂是氢原子、烷基、脂环基、芳基、杂环、酯基或醚基，是不由酸而离去的原子或基团；R₄是由酸而离去的保护基；m为0～5的整数；a和b满足0＜a＜1、0＜b＜1和0＜a+b≤1。

一种图案形成方法，其特征在于，具备：把具有含以[化1]所表示的第1单元、以[化2]所表示的第2单元和以[化3]表示的第3单元的基体树脂和酸产生剂的图案形成材料涂布在基板上形成抗蚀剂膜的工序、用具有180nm波段以下波长的曝光用光照射所述抗蚀剂膜进行图案曝光的工序、以及对经图案曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；

[化1]

[化2]

[化3]

其中，R₁、R₃和R₅是相同或不同，是氢原子、氯原子、氟原子、烷基或含氟原子烷基；R₂是氢原子、烷基、脂环基、芳基、杂环、酯基或醚基，是不由酸而离去的原子或基团；R₄是由酸而离去的保护基；m为0～5的整数；n为0～5的整数；a、b和c满足0＜a＜1、0＜b＜1、0＜c＜1和0＜a+b+c≤1。