[发明专利]双折射测定装置以及双折射测定方法无效

专利信息
申请号: 200910128480.9 申请日: 2009-03-23
公开(公告)号: CN101539512A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 重田文吾;下田知之;池端康介 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G01N21/23 分类号: G01N21/23
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 双折射 测定 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种双折射测定装置,其特征在于,具有:

第1测定单元,其将光垂直地入射至被测定试样,对所述被测定试样的正面延迟量进行测定;

第2测定单元,其将光以规定的入射角入射至所述被测定试样,对所述被测定试样的斜向延迟量进行测定;

方位变更单元,其使所述第1测定单元以及所述第2测定单元中的至少所述第2测定单元,在保持光的入射角和入射位置恒定的状态下变更所述光的入射方位;

控制单元,其对所述方位变更单元进行控制,以使所述光的入射方位与所述被测定试样的超前相轴方位或者滞后相轴方位平行;以及

根据所述正面延迟量和所述斜向延迟量而对所述被测定试样的厚度方向延迟量进行计算的单元。

2.根据权利要求1所述的双折射测定装置,其特征在于,

所述方位变更单元通过使所述第1测定单元以及所述第2测定单元中的至少所述第2测定单元,以所述第2测定单元的入射位置处的法线为中心进行旋转,从而在所述入射角和所述入射位置保持恒定的状态下变更所述第2测定单元的光的入射方位。

3.根据权利要求1或2所述的双折射测定装置,其特征在于,

该双折射测定装置还具有基于所述第1测定单元的测定结果,对所述被测定试样的超前相轴方位或者滞后相轴方位进行计算的单元,

所述控制单元对所述方位变更单元进行控制,以使所述光的入射方位与所述计算出的超前相轴方位或者滞后相轴方位平行。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的双折射测定装置,其特征在于,具有:

传送单元,其以规定的速度将所述被测定试样从所述第1测定单元的入射位置向所述第2测定单元的入射位置传送;以及

控制单元,其对所述第1测定单元和所述第2测定单元进行控制,以使所述第1测定单元在被测定试样上的测定区域和所述第2测定单元在被测定试样上的测定区域为同一区域。

5.根据权利要求4所述的双折射测定装置,其特征在于,

所述第1测定单元和所述第2测定单元配置为,所述第1测定单元的入射位置和所述第2测定单元的入射位置以规定的间隔L分离,

针对所述第1测定单元进行测定的期间内所述被测定试样被传送的量、以及在所述第2测定单元进行测定的期间内所述被测定试样被传送的量,将其中较多的那个记作X,

将在所述方位变更单元进行方位变更的期间内所述被测定试样的传送量记作Y,

将所述被测定试样的测定点的间隔记作P,在此情况下,满足X+Y≤P≤L的关系。

6.根据权利要求4或5所述的双折射测定装置,其特征在于,

所述第1测定单元以及所述第2测定单元的入射区域小于或等于4mm。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的双折射测定装置,其特征在于,

所述第1测定单元以及所述第2测定单元的入射光为平行光。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的双折射测定装置,其特征在于,

所述控制单元具有:

检测单元,其对所述被测定试样的传送量进行检测;以及

触发信号产生单元,其使所述第1测定单元以及所述第2测定单元开始进行测定,

所述触发信号产生单元在使所述第1测定单元开始进行测定后,如果所述检测单元所检测出的所述被测定试样的传送量等于所述规定的距离L,则使所述第2测定单元开始进行测定。

9.根据权利要求8所述的双折射测定装置,其特征在于,

所述传送单元为旋转驱动的传送辊,

该双折射测定装置具有编码器,其输出与所述传送辊的旋转角对应的脉冲序列,

所述检测单元对所述脉冲序列的脉冲数进行累计而检测所述被测定试样的传送量。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的双折射测定装置,其特征在于,

所述第1测定单元以及所述第2测定单元一体地构成,所述第1测定单元以及所述第2测定单元配置为,使所述第1测定单元的入射位置以及所述第2测定单元的入射位置为相同位置。

11.一种双折射测定方法,其特征在于,具有:

第1测定工序,其将光垂直地入射至被测定试样,对所述被测定试样的延迟量进行测定;

第2测定工序,其将光以规定的入射角入射至所述被测定试样,对所述被测定试样的延迟量进行测定;

方位变更工序,其使所述第1测定工序以及所述第2测定工序中的至少所述第2测定工序,在光的入射角和入射位置保持恒定的状态下变更所述光的入射方位;

控制工序,其对所述方位变更工序进行控制,以使所述光的入射方位与所述被测定试样的超前相轴方位或者滞后相轴方位平行;以

根据所述正面延迟量和所述斜向延迟量而对所述被测定试样的厚度方向延迟量进行计算的工序。

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