[发明专利]涂敷装置和方法

权利要求书

1.一种涂敷装置，具备：

基板保持部，将基板保持为水平；

涂敷液供给机构，将涂敷液供给到保持在上述基板保持部上的上 述基板的表面中央部；

驱动部，使上述基板保持部绕铅直轴旋转，以使供给到上述基板 的表面中央部的上述涂敷液借助离心力向上述基板的表面周缘部扩 散；和

振动抑制机构，具有分别以与上述基板的背面相对置的方式设置 的排出口和抽吸口，通过从上述排出口排出气体并且向上述抽吸口抽 吸上述气体，抑制旋转过程中的上述基板的振动，

上述振动抑制机构具备沿着上述基板的旋转方向设置的壳体，上 述排出口和上述抽吸口形成在上述壳体的上表面，

上述排出口具备沿上述基板的旋转方向排列的多个排出孔，上述 抽吸口具备沿上述基板的旋转方向排列的多个抽吸孔，

上述排出孔和上述抽吸孔沿着上述基板的旋转方向和径向交替排 列。

2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置 进而具备升降机构，该升降机构用于使上述振动抑制机构在用于抑制 上述基板的上述振动的作用位置、与该作用位置下方的待机位置之间 升降。

3.根据权利要求2所述的涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置 进而具备控制上述涂敷装置的某动作的控制部，上述控制部预先设定 为，在上述基板被交接至上述基板保持部时将上述振动抑制机构配置 在上述待机位置。

4.根据权利要求2所述的涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置 进而具备控制上述涂敷装置的某动作的控制部，上述控制部预先设定 为，在使上述振动抑制机构从上述待机位置向上述作用位置上升而接 近保持在上述基板保持部上的上述基板时，从上述排出口排出上述气 体，不向上述抽吸口抽吸上述气体。

5.根据权利要求2所述的涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置 进而具备起降机构，该起降机构使上述基板在进行上述涂敷液的涂敷 的处理位置、和与外部的搬送部件之间进行交接的交接位置之间升降。

6.根据权利要求5所述的涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置 进而具备控制上述涂敷装置的某动作的控制部，上述控制部预先设定 为，在上述基板从上述交接位置下降至上述处理位置时将上述振动抑 制机构配置在上述待机位置。

7.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，上述振动抑 制机构的上述壳体具有沿着上述基板的旋转方向的环状的形状。

8.一种使用权利要求1所述的涂敷装置的涂敷方法，包括以下 工序：

利用上述基板保持部将基板保持为水平的工序；

从上述涂敷液供给机构将上述涂敷液供给到保持在上述基板保持 部上的上述基板的表面中央部的工序；

借助上述驱动部使上述基板保持部绕铅直轴旋转，以使供给到上 述基板的表面中央部的上述涂敷液借助离心力向上述基板的表面周缘 部扩散的工序；和

利用上述振动抑制机构，从上述排出口排出气体并且向上述抽吸 口抽吸上述气体，从而抑制旋转过程中的上述基板的振动的工序。

9.根据权利要求8所述的涂敷方法，其特征在于，

抑制旋转过程中的上述基板的振动的上述工序至少在摊平上述涂 敷膜以成为均匀的膜厚的期间进行。

10.根据权利要求8所述的涂敷方法，其特征在于，

该涂敷方法进而包括使上述振动抑制机构在用于抑制上述基板的 上述振动的作用位置、与该作用位置下方的待机位置之间升降的工序。

11.根据权利要求10所述的涂敷方法，其特征在于，

在上述基板被交接至上述基板保持部时，将上述振动抑制机构配 置在上述待机位置。

12.根据权利要求10所述的涂敷方法，其特征在于，

在使上述振动抑制机构从上述待机位置向上述作用位置上升而接 近保持在上述基板保持部上的上述基板时，从上述排出口排出上述气 体，不向上述抽吸口抽吸上述气体。

13.根据权利要求8所述的涂敷方法，其特征在于，上述振动抑 制机构的上述壳体具有沿着上述基板的旋转方向的环状的形状。