[发明专利]喷射器装置和使用该喷射器装置的制冷循环设备有效
申请号: | 200910128709.9 | 申请日: | 2009-03-13 |
公开(公告)号: | CN101532760A | 公开(公告)日: | 2009-09-16 |
发明(设计)人: | 尾形豪太;西岛春幸;山田悦久;五丁美歌;松井秀也;茅野健太;羽野照幸 | 申请(专利权)人: | 株式会社电装 |
主分类号: | F25B41/00 | 分类号: | F25B41/00;F25B5/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王新华 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷射器 装置 使用 制冷 循环 设备 | ||
1.一种喷射器装置,包括:
喷嘴(140),所述喷嘴具有内壁表面,所述内壁表面限定从所述喷嘴的入口(141)延伸到喷射口(142)的流体通道(143),其中
所述流体通道的垂直于所述流体通道的轴向线的横截面是圆形形状,
所述流体通道在所述入口和所述喷射口之间的位置具有喉部(144),在所述喉部处所述流体通道的横截面面积变成最小;和通道扩展部分(145),在所述通道扩展部分中,所述流体通道的横截面面积从所述喉部朝向下游被扩大以使流入所述喉部的流体减压,且
所述通道扩展部分(145)包括中间部分(147),在所述中间部分中,所述内壁表面在流体流动方向上以第一扩展角度(θ1)扩展;和出口部分(148),所述出口部分从所述中间部分的下游端到所述喷射口,在所述出口部分中,所述内壁表面在所述流体流动方向上以大于所述第一扩展角度(θ1)的第二扩展角度(θ2)扩展。
2.如权利要求1所述的喷射器装置,其中在所述出口部分中,所述第二扩展角度在流体流动方向上朝向下游逐渐地增大。
3.如权利要求1所述的喷射器装置,其中所述第二扩展角度在所述出口部分整个区域是恒定的。
4.如权利要求1所述的喷射器装置,其中在所述出口部分的所述喷射口处的所述第二扩展角度与所述第一扩展角度的比值等于或大于1.33。
5.如权利要求1到4中任一项所述的喷射器装置,其中
所述通道扩展部分还包括引入部分(146),所述引入部分设置成在所述流体流动方向上从所述喉部到所述中间部分的上游端,且
在所述引入部分中的所述内壁表面在所述流体流动方向上以大于所述第一扩展角度(θ1)的第三扩展角度(θin)扩展。
6.如权利要求5所述的喷射器装置,其中所述第三扩展角度在所述引入部分中在流体流动方向上朝向下游逐渐地减小。
7.如权利要求5所述的喷射器装置,其中所述第三扩展角度在所述引入部分的整个区域是恒定的。
8.如权利要求1到4中任一项所述的喷射器装置,其中所述第一扩展角度在所述中间部分的整个区域是恒定的。
9.如权利要求1到4中任一项所述的喷射器装置,其中所述第一扩展角度在所述中间部分中在所述流体流动方向上朝向下游逐渐地增大。
10.如权利要求1到4中任一项所述的喷射器装置,其中所述喷嘴构造成使流入到所述喉部的气-液两相流体减压。
11.一种喷射器装置,包括:
喷嘴(140),所述喷嘴内具有从所述喷嘴的入口(141)延伸到喷射口(142)的流体通道(543、643、743),其中
所述流体通道具有在所述入口和所述喷射口之间的位置处的喉部(144),在所述喉部处,所述流体通道的横截面面积变成最小,
所述喷嘴包括具有内壁表面(5401)的喷嘴主体(540A、640A),和从所述入口朝向所述喷射口插入所述流体通道的针阀(540B、640B),
所述喷嘴主体的所述内壁表面(5401)和所述针阀的外壁表面(5402)构造成在所述喷嘴内限定所述流体通道从所述喉部到所述喷射口的通道扩展部分(145),
当所述流体通道的所述通道扩展部分被设想成具有圆形横截面的假想流体通道,且其中所述圆形横截面具有相当于在所述流体通道的各个横截面中的所述通道扩展部分的流体通道的直径时,所述假想流体通道的通道表面从所述喉部朝向下游被扩大以使流入所述喉部的流体减压,且
所述通道扩展部分包括中间部分(147),在所述中间部分中,所述假想流体通道的所述通道表面在流体流动方向上以第一扩展角度(θ1)扩展;和从所述中间部分的下游端到所述喷射口的出口部分(148),在所述出口部分中,所述假想流体通道的所述通道表面在所述流体流动方向上以大于所述第一扩展角度(θ1)的第二扩展角度(θ2)扩展。
12.如权利要求11所述的喷射器装置,其中在所述出口部分中的所述第二扩展角度在所述流体流动方向上朝向下游逐渐地增大。
13.如权利要求11所述的喷射器装置,其中所述第二扩展角度在所述出口部分的整个区域是恒定的。
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