[发明专利]用于挠曲件集成的微致动器的系统、方法和装置有效
申请号: | 200910129887.3 | 申请日: | 2009-03-30 |
公开(公告)号: | CN101546562A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 迈克尔·R·哈奇 | 申请(专利权)人: | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
主分类号: | G11B5/48 | 分类号: | G11B5/48;G11B5/55;G11B5/56 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李昕巍 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 挠曲 集成 微致动器 系统 方法 装置 | ||
1.一种用于硬盘驱动器的悬臂,包括:
负载梁,具有沿纵向x延伸的纵轴且定义与所述纵向x直交的横向y和与所述纵向x和横向y两者直交的垂向z,该负载梁具有负载梁凹陷,其定义沿所述垂向z延伸的凹陷轴;
挠曲件,安装到该负载梁且具有带前导边缘部分和滑块附着平台的舌,该滑块附着平台与该前导边缘部分纵向间隔开;
滑块,安装到该滑块附着平台且具有关于该凹陷轴的旋转自由度;
迹线,沿该挠曲件延伸且与该滑块电连通,所述迹线具有迹线外伸架部分,该迹线外伸架部分是所述舌沿该横向的外侧;以及
微致动器,位于该挠曲件的该舌中且延伸于该前导边缘部分与该滑块附着平台之间,从而该微致动器关于该凹陷轴选择性转动该滑块,
该微致动器包括压电致动器件,该压电致动器件包括:纵向延伸的多个压电体,该压电体具有前导端和拖尾端,
其中该挠曲件还包括钢外伸架,该钢外伸架在横向上位于该压电体和该迹线外伸架部分之间,该钢外伸架纵向延伸超过该压电体的拖尾端以形成返回部分,该钢外伸架在纵向上从该返回部分向该前导边缘部分反向且连接到该压电体的前导端。
2.根据权利要求1所述的悬臂,该悬臂还包括聚酰亚胺凹陷,该聚酰亚胺凹陷位于该凹陷轴处的该挠曲件和该滑块之间,以及至少一个刚性结构粘合垫,位于该滑块和该滑块附着平台之间。
3.根据权利要求2所述的悬臂,该悬臂还包括外配准垫,该外配准垫在垂向上安装于该迹线和该滑块之间,以及中心配准垫,在横向上位于该外配准垫之间且在纵向上安装得邻近该聚酰亚胺凹陷。
4.根据权利要求1所述的悬臂,其中该压电体用压电体铰链连接到该滑块附着平台,该压电致动器件还包括:挠曲件铰链,形成于该舌中,横向上位于该压电体和该压电体铰链的对之间,该挠曲件铰链位于该凹陷轴处。
5.根据权利要求4所述的悬臂,其中该压电体的前导端固定到该前导边缘部分,且该压电体的拖尾端固定到该压电体铰链。
6.根据权利要求4所述的悬臂,其中该压电体铰链和该挠曲件铰链纵向排列。
7.根据权利要求4所述的悬臂,其中该压电体纵向延伸,但是每个压电体相对于所述纵轴以小于5度的角取向,从而该压电体关于该纵轴纵向对称。
8.根据权利要求4所述的悬臂,其中该压电体具有x-y表面,其毗接一聚酰亚胺层,该聚酰亚胺层平行于该x-y表面从而减弱共振,该压电体连接到该前导边缘部分。
9.根据权利要求4所述的悬臂,其中该负载梁凹陷具有7.5微米左右的垂向尺寸从而相对于该负载梁为该压电体提供额外的垂向空隙。
10.根据权利要求8所述的悬臂,其中该聚酰亚胺层具有比该压电体的横向组合尺寸更大的横向尺寸,该聚酰亚胺层固定到所述舌的多个钢部分,该聚酰亚胺层不接触该滑块。
11.根据权利要求4所述的悬臂,其中每个压电体包括矩形块,该矩形块的尺寸为大约1mm长,0.22mm宽和40-60微米厚,该舌的钢层具有20微米左右的厚度。
12.根据权利要求4所述的悬臂,其中每个压电体相对于该负载梁提供有30微米左右的最小垂向空隙,所述滑块具有额定1.5度的俯仰旋转范围以适应加载/卸载过程。
13.根据权利要求4所述的悬臂,其中所述压电体通过施加到该压电体中的导电层的电压而被致动,每个压电体包括多个层,其中相反极性的电压施加到所述压电体,从而一个压电体膨胀且另一压电体收缩以关于该凹陷轴转动该滑块。
14.根据权利要求13所述的悬臂,其中该压电体的拖尾端通过所述迹线提供有电能,该压电体的前导端通过铜通路直接接地到该挠曲件的钢层。
15.根据权利要求4所述的悬臂,其中该挠曲件具有钢层,该钢层具有在x-y平面内延伸的下表面,该压电体具有在x-y平面内延伸的下表面,该挠曲件的钢层的下表面和该压电体的下表面共面。
16.根据权利要求1所述的悬臂,该悬臂还包括从该舌的前导边缘部分延伸的前导边缘限制件,该前导边缘限制件穿过形成于该负载梁中的窗口突出,该舌还包括在所述舌的拖尾边缘的拖尾边缘限制件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910129887.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。