[发明专利]反相器和包括反相器的逻辑电路有效
申请号: | 200910130129.3 | 申请日: | 2009-03-25 |
公开(公告)号: | CN101546768A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 金尚煜;朴永洙;朴宰彻 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/085 | 分类号: | H01L27/085;H01L27/088;H01L29/10;H01L29/12;H03K19/20;H03K19/094 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;罗延红 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反相器 包括 逻辑电路 | ||
1.一种反相器,包括:
耗尽型的负载晶体管,所述负载晶体管具有作为第一沟道层的第一氧化 物层;
增强型的驱动晶体管,所述驱动晶体管连接到所述负载晶体管,所述驱 动晶体管具有作为第二沟道层的第二氧化物层;
源电极和漏电极,均与第二氧化物层对应;
阻挡层,在第二氧化物层与所述源电极和漏电极之间,阻挡层的功函数 大于第二氧化物层的功函数。
2.如权利要求1所述的反相器,其中,阻挡层是从由Ti氧化物层、Cu 氧化物层、Ni氧化物层、掺杂有Ti的Ni氧化物层、ZnO类氧化物层、掺杂 有I族、II族和V族元素的ZnO类氧化物层、掺杂有Ag的ZnO类氧化物层 以及它们的组合组成的组中选择的至少一种。
3.如权利要求1所述的反相器,其中,第一氧化物层和第二氧化物层是 相同材料的层。
4.如权利要求1所述的反相器,其中,第一氧化物层和第二氧化物层中 的至少一个包含ZnO类材料。
5.如权利要求1所述的反相器,其中,负载晶体管和驱动晶体管中的至 少一个是具有底栅结构的薄膜晶体管。
6.如权利要求1所述的反相器,其中,负载晶体管和驱动晶体管中的至 少一个是具有顶栅结构的薄膜晶体管。
7.一种反相器,包括:
耗尽型的负载晶体管,所述负载晶体管具有作为第一沟道层的第一氧化 物层;
增强型的驱动晶体管,所述驱动晶体管连接到所述负载晶体管,所述驱 动晶体管具有作为第二沟道层的第二氧化物层,
其中,第一氧化物层和第二氧化物层具有不同的载流子浓度。
8.如权利要求7所述的反相器,其中,第二氧化物层的载流子浓度低于 第一氧化物层的载流子浓度。
9.如权利要求7所述的反相器,其中,第一氧化物层和第二氧化物层中 的至少一个包含ZnO类材料。
10.如权利要求7所述的反相器,其中,负载晶体管和驱动晶体管中的 至少一个是具有底栅结构的薄膜晶体管。
11.如权利要求7所述的反相器,其中,负载晶体管和驱动晶体管中的 至少一个是具有顶栅结构的薄膜晶体管。
12.一种反相器,包括:
耗尽型的负载晶体管,所述负载晶体管具有作为第一沟道层的第一氧化 物层;
增强型的驱动晶体管,所述驱动晶体管连接到所述负载晶体管,所述驱 动晶体管具有作为第二沟道层的第二氧化物层,
其中,利用等离子体处理第一氧化物层的表面,使得第一氧化物层的导 电性高于第二氧化物层的导电性。
13.如权利要求12所述的反相器,其中,利用Ar等离子体处理第一氧 化物层的表面。
14.如权利要求12所述的反相器,其中,第一氧化物层和第二氧化物层 中的至少一个包含ZnO类材料。
15.如权利要求12所述的反相器,其中,负载晶体管和驱动晶体管中的 至少一个是具有底栅结构的薄膜晶体管。
16.如权利要求12所述的反相器,其中,负载晶体管和驱动晶体管中的 至少一个是具有顶栅结构的薄膜晶体管。
17.一种包括如权利要求1、权利要求7和权利要求12中的任意一项权 利要求所述的反相器的逻辑电路。
18.如权利要求17所述的逻辑电路,其中,所述逻辑电路是与非电路、 或非电路、编码器、解码器、复用器、解复器或灵敏放大器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的