[发明专利]蚀刻液调合装置及蚀刻液浓度测定装置有效

专利信息
申请号: 200910133196.0 申请日: 2009-04-15
公开(公告)号: CN101567309A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 中川俊元;佐藤寿邦 申请(专利权)人: 株式会社平间理化研究所
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/66;C23F1/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 调合 装置 浓度 测定
【权利要求书】:

1.一种蚀刻液调合装置,其具备:调合铝膜用蚀刻液的调合槽;与 所述调合槽连接的管路;向所述管路输送所述蚀刻液或所述蚀刻液的调合 中使用的液体的泵,所述蚀刻液调合装置通过所述管路与蚀刻装置连接, 其特征在于,所述蚀刻液调合装置具备:

硝酸浓度检测及液体补给机构,其基于通过利用电导率计检测用纯水 稀释所述调合槽内的蚀刻液而形成的稀释液的电导率而得到的所述蚀刻 液的硝酸浓度、或通过利用吸光光度计检测所述蚀刻液的吸光度而得到的 所述蚀刻液的硝酸浓度,向所述调合槽补给单一酸原液、混酸原液或纯水 的至少一种;

水分浓度检测及液体补给机构,其基于通过利用吸光光度计检测所述 蚀刻液的吸光度而得到的所述蚀刻液的水分浓度,向所述调合槽补给单一 酸原液、混酸原液或纯水的至少一种;

磷酸浓度检测及液体补给机构,其基于通过利用吸光光度计检测所述 蚀刻液的吸光度而得到的所述蚀刻液的磷酸浓度或通过利用密度计检测 所述蚀刻液的密度而得到的所述蚀刻液的磷酸浓度,向所述调合槽补给单 一酸原液、混酸原液或纯水的至少一种。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述蚀刻液为含有磷酸和硝酸的水溶液。

3.根据权利要求2所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述蚀刻液是还含有有机酸、盐酸、硫酸、高氯酸的至少一种的水溶 液。

4.根据权利要求3所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述有机酸为醋酸或丙二酸。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述蚀刻液调合装置采用连续调合方式。

6.一种蚀刻液调合装置,其具备:调合铝膜用蚀刻液的调合槽;与 所述调合槽连接的管路;向所述管路输送所述蚀刻液或所述蚀刻液的调合 中使用的液体的泵,所述蚀刻液调合装置通过所述管路与蚀刻装置连接, 其特征在于,所述蚀刻液调合装置具备:

检测用纯水稀释所述调合槽内的蚀刻液而形成的稀释液的电导率的 电导率计或检测所述蚀刻液的硝酸浓度的吸光光度计;

检测所述蚀刻液的水分浓度的吸光光度计;

检测所述蚀刻液的磷酸浓度的吸光光度计或密度计;

成分浓度运算机构,其根据检测硝酸浓度的所述电导率计的电导率值 或检测硝酸浓度的所述吸光光度计的吸光度值、检测水分浓度的所述吸光 光度计的吸光度值和检测磷酸浓度的所述吸光光度计的吸光度值或检测 磷酸浓度的所述密度计的密度值,利用多变量解析法来运算所述蚀刻液的 成分浓度;

液体补给机构,其向所述调合槽中补给单一酸原液、混酸原液及纯水 的至少一种。

7.根据权利要求6所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述蚀刻液为含有磷酸和硝酸的水溶液。

8.根据权利要求7所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述蚀刻液是还含有有机酸、盐酸、硫酸、高氯酸的至少一种的水溶 液。

9.根据权利要求8所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述有机酸为醋酸或丙二酸。

10.根据权利要求6~9中任一项所述的蚀刻液调合装置,其中,

所述蚀刻液调合装置采用连续调合方式。

11.一种蚀刻液浓度测定装置,其特征在于,具备:

检测用纯水稀释铝膜用蚀刻液而形成的稀释液的电导率的电导率计 或检测所述蚀刻液的硝酸浓度的吸光光度计;

检测所述蚀刻液的水分浓度的吸光光度计;

检测所述蚀刻液的磷酸浓度的吸光光度计或密度计;

成分浓度运算机构,其根据检测电导率的所述电导率计的电导率值或 检测硝酸浓度的所述吸光光度计的吸光度值、检测水分浓度的所述吸光光 度计的吸光度值和检测磷酸浓度的所述吸光光度计的吸光度值或检测磷 酸浓度的所述密度计的密度值,利用多变量解析法来运算所述蚀刻液的成 分浓度。

12.根据权利要求11所述的蚀刻液浓度测定装置,其中,

检测所述蚀刻液的硝酸浓度的吸光光度计为使用了紫外线区域的波 长的紫外吸光光度计。

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