[发明专利]一种控制刀圈以防止显影液残留的方法

权利要求书

1.一种控制刀圈以防止显影液残留的方法，其特征在于

该刀圈以可活动方式设置在晶片背面，与晶片背面之间留有预定的间隙；

清洗晶片背面前上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第一间隙；

清洗晶片背面时上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第二间隙；

且上述第二间隙大于上述第一间隙。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于上述第一间隙是0.2～1mm。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于上述第二间隙是1～10mm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙的调节通过改变刀圈的高度来实现。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于上述刀圈由电动装置来带动以调节其高度。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于上述电动装置是滚筒或马达中的一种。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于上述刀圈距离晶边有预定距离。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于上述预定距离是8～12mm。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于上述方法用于在黄光制程中清洗晶片背面的残留显影液。

10.一种用于权利要求1的方法中的刀圈装置，其特征在于

该刀圈装置包括刀圈，置于刀圈下方的电动装置；该电动装置可以控制刀圈在垂直于晶片的方向上移动，使刀圈与晶片背面之间的间隙在不同进程中改变。