[发明专利]馈送器单元、片材馈送装置和成像设备有效
申请号: | 200910133893.6 | 申请日: | 2009-04-08 |
公开(公告)号: | CN101554963A | 公开(公告)日: | 2009-10-14 |
发明(设计)人: | 佐本贤治 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | B65H3/06 | 分类号: | B65H3/06;B65H3/46;B65H3/66;B65H5/06;B65H5/38;B65H1/04;B65H29/22;B41J13/02;H04N1/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 车 文;张建涛 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 馈送 单元 装置 成像 设备 | ||
1.一种馈送器单元,所述馈送器单元用于在预定的馈送方向上馈送堆叠在盘中的片材,所述馈送器单元包括:
主框架,所述主框架具有枢轴端和可摆动端,所述主框架在所述枢轴端处由布置在所述盘的上方的第一轴可摆动地支撑,所述主框架具有上表面和下表面,并且所述主框架布置成在所述下表面面对所述盘的情况下从所述第一轴朝向所述盘的上水平面延伸;
旋转构件,所述旋转构件布置在所述主框架的所述可摆动端处,所述旋转构件由在与所述第一轴相同的方向上延伸的第二轴可旋转地支撑,并且所述旋转构件布置成与堆叠在所述盘中的所述片材的最上面的表面接触;
一对对置壁,所述一对对置壁形成在所述主框架中,并且所述一对对置壁的平面与所述第一轴的方向垂直;
副框架,所述副框架具有一对支撑壁,当通过开口将所述副框架插入在由所述主框架中的所述对置壁分隔出的空间中时,所述一对支撑壁面对所述对置壁,所述开口形成在所述主框架的任一表面上;
齿轮系,所述齿轮系包括用于将预定的旋转力传递到所述旋转构件的多个齿轮,所述齿轮中的每一个齿轮能够绕第三轴旋转,所述第三轴在与所述第一轴相同的方向上延伸,且由所述一对支撑壁可旋转地支撑;
定位构件,所述定位构件用于使所述副框架位于所述分隔出的空间中的预定的位置处;和
拆卸制止构件,所述拆卸制止构件用于制止从所述主框架拆卸所述副框架,
其中当所述旋转构件在馈送所述片材的方向上旋转时,所述副框架位于所述主框架的所述预定的位置处。
2.根据权利要求1所述的馈送器单元,
其中所述齿轮系包括奇数个齿轮;并且
其中所述定位构件限定所述副框架的在所述分隔出的空间的深度方向上的位置,所述深度方向从所述开口指向所述分隔出的空间的底部。
3.根据权利要求1所述的馈送器单元,
其中所述定位构件限定所述副框架的在所述主框架的所述分隔出的空间的长度方向上的位置,所述长度方向从所述第一轴朝向所述旋转构件延伸。
4.根据权利要求1所述的馈送器单元,
其中所述主框架从所述第一轴朝所述馈送方向的下游侧延伸;并且
其中所述开口设置在所述主框架的与所述盘面对的所述下表面上。
5.根据权利要求1所述的馈送器单元,
其中所述主框架和所述副框架由合成树脂模制;并且
其中所述副框架由具有比所述主框架的可滑动性高的可滑动性的合成树脂制成。
6.根据权利要求2所述的馈送器单元,
其中所述定位构件通过使所述副框架与预定的接触部分接触而使所述副框架位于所述分隔出的空间的所述深度方向上的所述预定的位置中,所述预定的接触部分设置在所述分隔出的空间的所述底部上。
7.根据权利要求1所述的馈送器单元,
其中所述定位构件包括一对凹槽部分和一对支座部分,所述一对凹槽部分中的每一个凹槽部分形成在所述对置壁中的任一个对置壁上,并且所述一对支座部分中的每一个支座部分形成在所述支撑壁中的任一个支撑壁上且能够与所述凹槽部分中的一个凹槽部分接合。
8.根据权利要求7所述的馈送器单元,
其中所述支撑壁中的每一个支撑壁形成为具有可旋转地支撑所述第三轴的轴孔,并且布置在所述齿轮系中的所述齿轮的每一个横向侧上;并且
其中所述支座部分中的每一个支座部分形成为在与所述轴孔对应的位置从所述支撑壁的外表面向外突出。
9.根据权利要求8所述的馈送器单元,
其中所述轴孔是贯穿所述支撑壁的通孔;并且
其中所述支座部分是圆形肋,以环绕所述支撑壁的所述外表面上的所述轴孔的所述通孔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兄弟工业株式会社,未经兄弟工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910133893.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。