[发明专利]新型SRAM单元阵列结构有效

专利信息
申请号: 200910133932.2 申请日: 2009-04-10
公开(公告)号: CN101572122A 公开(公告)日: 2009-11-04
发明(设计)人: 李政宏;吴经纬;廖宏仁 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G11C11/41 分类号: G11C11/41;G11C11/413
代理公司: 北京市德恒律师事务所 代理人: 梁 永
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 新型 sram 单元 阵列 结构
【权利要求书】:

1.一种静态随机存取存储器(SRAM)单元阵列结构,包括:

耦合到SRAM单元的一个列的第一和第二导线,所述第一和第二导线 彼此平行并且通过第一金属层形成;以及

置于所述第一和第二导线之间的第三导线,其跨越所述SRAM单元的 列并且不与该列电连接,所述第三导线也通过第一金属层形成,

其中所述第三导线上的电压在写操作期间从高压(VCC)摆动到低压 (VSS)。

2.根据权利要求1所述SRAM单元阵列结构,其中所述第一和第二 导线为用于所述SRAM单元的位线。

3.根据权利要求2所述SRAM单元阵列结构,其中在写操作期间, 所述位线之一上的电压从高压(VCC)摆动到低压(VSS),同时另一位线 上的电压维持在VCC

4.根据权利要求1所述SRAM单元阵列结构,其中所述第三导线上 的电压跟随位线的电压摆动而摆动。

5.根据权利要求1所述SRAM单元阵列结构,其中所述第三导线平 行于所述第一和第二导线。

6.根据权利要求1所述SRAM单元阵列结构,其中所述SRAM单元 具有6个或更多个晶体管。

7.根据权利要求1所述SRAM单元阵列结构,还包括:置于所述第 一和第三导线之间的第四导线,其跨越所述SRAM单元的列,并且不与该 列电连接,所述第四导线通过所述第一金属层形成。

8.根据权利要求7所述SRAM单元阵列结构,其中在写操作期间, 所述第四导线上的电压维持高压(VCC),同时所述第三导线从VCC摆动到 低压VSS

9.一种静态随机存取存储器(SRAM)单元阵列结构,所述SRAM单 元具有6个或更多个晶体管,所述SRAM单元阵列结构包括:

耦合到SRAM单元的列的第一和第二位线,所述第一和第二位线彼此 平行并且通过第一金属层形成,其中在写操作期间,位线之一上的电压从 高压(VCC)摆动到低压(VSS),同时另一位线上的电压维持VCC;以及

置于所述第一和第二位线之间的第一导线,其跨越所述SRAM单元的 列并且不与该列电连接,所述第一导线也通过所述第一金属层形成,

其中,所述第一导线上的电压跟随位线上的电压的摆动从VCC摆动到 VSS

10.根据权利要求9所述SRAM单元阵列结构,其中所述第一导线平 行于所述位线。

11.根据权利要求9所述SRAM单元阵列结构,还包括:置于所述导 线和所述位线之一之间的第二导线,其跨越所述SRAM单元的列并且不与 该列电连接,所述第二导线通过第一金属层形成。

12.根据权利要求11所述SRAM单元阵列结构,其中在写操作期间, 所述第二导线上的电压维持高压(VCC),同时所述第一导线从VCC摆动到 低压(VSS)。

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