[发明专利]磁性存储装置及其驱动方法和信息写入读取方法有效

专利信息
申请号: 200910134017.5 申请日: 2009-04-03
公开(公告)号: CN101552033A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 黃仁俊;徐顺爱;金起园;金洸奭 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11C11/15 分类号: G11C11/15;G11C11/16;H01L27/22;H01F10/00;H01F10/32;H01F10/10
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;刘奕晴
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 磁性 存储 装置 及其 驱动 方法 信息 写入 读取
【权利要求书】:

1.一种磁性存储装置,包括:

固定层、信息存储层、自由层,顺序形成在下结构上;

反铁磁层,布置在下结构和固定层之间,反铁磁层固定固定层的磁化方 向;

第一非磁性层,布置在固定层和信息存储层之间;

第二非磁性层,布置在信息存储层和自由层之间,自由层布置在第二非 磁性层上,使得自由层的磁化方向能够改变,

其中,所述磁性存储装置被配置成通过从自由层将自旋极化电子施加到 信息存储层来将信息写入到信息存储层。

2.如权利要求1所述的磁性存储装置,其中,第一非磁性层和第二非磁 性层由MgO形成。

3.如权利要求1所述的磁性存储装置,其中,下结构是开关结构。

4.如权利要求1所述的磁性存储装置,所述磁性存储装置还包括:

位线、层间绝缘层、写入线,顺序形成在自由层上。

5.如权利要求1所述的磁性存储装置,所述磁性存储装置还包括:

磁性层,形成在自由层上,磁性层包括磁化方向彼此不同的至少两个畴。

6.一种磁性存储装置,包括:

反铁磁层;

固定层,在反铁磁层上,其中,反铁磁层固定固定层的磁化方向;

信息存储层,在固定层上;

自由层,在信息存储层上;

第一非磁性层,形成在固定层上,其中,信息存储层形成在第一非磁性 层上;

第二非磁性层,其中,自由层形成在第二非磁性层上,使得自由层的磁 化方向能够改变,

其中,所述磁性存储装置被配置成通过从自由层将自旋极化电子施加到 信息存储层来将信息写入到信息存储层。

7.如权利要求6所述的磁性存储装置,其中,信息存储层、固定层、自 由层中的至少一个具有合成反铁磁结构。

8.如权利要求7所述的磁性存储装置,其中,信息存储层具有合成反铁 磁结构。

9.如权利要求7所述的磁性存储装置,其中,固定层具有合成反铁磁结 构。

10.如权利要求7所述的磁性存储装置,其中,自由层具有合成反铁磁 结构。

11.如权利要求7所述的磁性存储装置,其中,合成反铁磁结构包括顺 序堆叠的第一铁磁层、中间层、第二铁磁层。

12.如权利要求11所述的磁性存储装置,其中,中间层包含从由Ru、 Cr、Cu组成的组中选择的任意一种。

13.如权利要求6所述的磁性存储装置,其中,第一非磁性层和第二非 磁性层由MgO形成。

14.如权利要求6所述的磁性存储装置,其中,反铁磁层形成在开关结 构上。

15.如权利要求6所述的磁性存储装置,所述磁性存储装置还包括:

位线、层间绝缘层、写入线,顺序形成在自由层上。

16.如权利要求6所述的磁性存储装置,所述磁性存储装置还包括:

磁性层,形成在自由层上,磁性层包括磁化方向彼此不同的至少两个畴。

17.一种磁性存储装置的信息写入和读取方法,所述磁性存储装置包括:

形成在下结构上的固定层、信息存储层、自由层;

反铁磁层,布置在下结构和固定层之间,反铁磁层固定固定层的磁化方 向;

第一非磁性层,布置在固定层和信息存储层之间;

第二非磁性层,布置在信息存储层和自由层之间,自由层布置在第二非 磁性层上,使得自由层的磁化方向能够改变,

所述方法包括:

在沿与固定层的磁化方向相对的方向设置自由层的磁化方向之后,将信 息写入信息存储层;

在沿与固定层的磁化方向相同的方向设置自由层的磁化方向之后,从信 息存储层读取信息。

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