[发明专利]定位系统、光刻设备和器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种定位系统、光刻设备和制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常是衬底的目标部分 上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这 种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形 成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅 晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通 常，图案的转移是通过把图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀 剂)层上而进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标 部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过 将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓 扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所 述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一 个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形 成装置将图案转移到衬底上。

图2公开一种用以定位台WT的定位系统PW，台WT通过平面电动 机能够在例如真空室3内移动。平面电动机包括定子2和传送器(translator) 35，用以在至少X、Y和Rz方向上定位台WT，并且如果需要也可以在Z、 Rx和Ry方向上定位台WT。粗定位机构(平面电动机)在X、Y和Rz 方向上的反作用力被传递到第一平衡质量块6。第一平衡质量块6可以在 支承件5上移动，支承件5允许第一平衡质量块6相对于基板BP在X、 Y和Rz方向上移动，而不允许相对于基板BP在Z、Rx和Ry方向上移动， 也就是刚性耦合。在精定位机构1的所有自由度上的反作用力被施加在传 送器35上并且被传递给第一平衡质量块6。第一平衡质量块6的质心和载 物台WT的质心在Z方向上处于不同位置，所述Z方向垂直于X和Y方 向。质心位置不同的结果在于，当平面电动机将沿X和/或Y方向的水平 力施加到载物台WT时，在第一平衡质量块6中产生分别围绕Y和/或X 轴线的扭矩。因为平衡质量块6在Rx和Ry方向上是通过支承件5刚性耦 合到基板BP，因此，这个扭矩被传递到基板BP。该扭矩会引起基板BP 内的振动，这恶化了定位系统的功能或恶化了使用所述定位系统的光刻设 备的功能。

发明内容

本发明旨在提供一种定位系统，在所述定位系统中由从平衡质量块传 递到基板的扭矩引起的振动被最小化。

在根据本发明的实施例中，提供一种用于定位支撑件的定位系统，包 括：第一致动器，其构建成施加致动力到所述支撑件上，所述第一致动器 耦合到第一平衡质量块，该第一平衡质量块构造并配置成吸收由所述第一 致动器产生的所述致动力导致的反作用力；以及控制器和第二致动器，所 述控制器和第二致动器构造并配置成施加补偿力，以补偿由所述第一致动 器施加在所述第一平衡质量块上的所述致动力引起的扭矩。

在本发明的实施例中，提供一种光刻设备，其包括：构建成调节辐射 束的照射系统；构造成支撑图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图 案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予到所述辐射束以形 成图案化的辐射束；构造成保持衬底的衬底支撑件；构建成将所述图案化 的辐射束投影到所述衬底的目标部分上的投影系统；和定位系统，其构造 并配置成定位至少一个所述支撑件，所述定位系统包括第一致动器以及控 制器和第二致动器，所述第一致动器构建成施加致动力到所述支撑件上， 所述第一致动器耦合到构造并配置成吸收由所述第一致动器产生的所述 致动力导致的反作用力的第一平衡质量块，所述控制器和第二致动器构造 并配置成施加补偿力，以补偿由所述第一致动器施加在所述第一平衡质量 块上的所述致动力引起的扭矩。

在本发明的另一实施例中，提供一种器件制造方法，包括：在衬底支 撑件上提供至少部分由辐射敏感材料层覆盖的衬底；在图案形成装置支撑 件上提供图案形成装置；将图案化的辐射束投影到所述辐射敏感材料层 上；和定位至少一个所述支撑件，所述定位的步骤包括：在第一平衡质量 块和所述支撑件之间施加第一作用力，所述第一作用力相对于所述第一平 衡质量块移动所述支撑件；和可控制地施加第二作用力，以补偿由所述第 一平衡质量块的质心位置和所述支撑件的质心位置的不同引起的扭矩。

附图说明