[发明专利]用于直写晶片的系统和方法

权利要求书

1、一种直写(DW)曝光系统，包括：

载物台，用于支撑衬底，并配置为在曝光期间沿轴扫描所述衬底；

数据处理模块，用于处理构图数据并生成所述构图数据相关的指令；以及

曝光模块，包括：

多个光束，其聚焦于衬底使得所述光束覆盖的宽度大于所述曝光系统的区域尺寸的宽度，所述宽度的方向不同于所述轴；以及

光束控制器，其在所述衬底沿所述轴被扫描时根据所述指令控制所述多个光束。

2、根据权利要求1所述的系统，其中所述区域尺寸包括在投影成像系统中透镜能够将图像从光掩模完全投影到晶片上的最大曝光面积。

3、根据权利要求1所述的系统，其中所述光束可以基本上覆盖所述衬底的宽度或大约所述衬底的一半宽度。

4、根据权利要求1所述的系统，其中所述多个光束中的每个选自包括电子束、离子束和光子束的集合中的一个类型。

5、根据权利要求1所述的系统，其中所述衬底包括形成在其上的记录介质。

6、根据权利要求1所述的系统，还包括：

多条光纤，用于将由所述数据处理单元生成的指令传输到曝光单元，所述指令通过光信号传输；

转换器，用于将所述光信号转换为相应的电信号；以及

开关电路，用于接收所述电信号并将所述电信号分发到所述光束控制器。

7、根据权利要求6所述的系统，还包括：

编码器，用于将所述指令编码以通过所述多条光纤传输；以及

解码器，用于解码所述指令以输入到所述开关电路中。

8、一种用于直写衬底的方法，所述方法包括：

提供衬底，所述衬底具有形成在其上的记录介质；

生成相关于形成在所述衬底之上的构图的指令；

沿轴扫描所述衬底；

提供多个光束，其覆盖的宽度大于曝光系统的区域尺寸的宽度，所述宽度的方向不同于所述轴；以及

在所述衬底沿所述轴被扫描时根据所述指令控制所述多个光束，以使所述记录介质被所述多个光束曝光。

9、根据权利要求8所述的方法，其中所述多个光束基本覆盖所述衬底的宽度，其中所述扫描沿轴的一个方向进行以曝光所述整个衬底。

10、根据权利要求8所述的方法，其中所述多个光束覆盖大约所述衬底宽度的一半。

11、根据权利要求8所述的方法，其中所述区域尺寸包括在投影成像系统中透镜能够将图像从光掩模完全投影到所述晶片的最大曝光面积。

12、根据权利要求8所述的方法，

其中所述指令包括一组区域间光束阻止指令；

包括并行分发所述区域间光束阻止指令组到至少两个区域；

其中所述控制多个光束包括根据所述指令组控制所述多个光束的第一部分以对所述至少两个区域中的一个写构图，以及根据所述相同的指令组控制所述多个光束的第二部分以对所述至少两个区域中的另外一个写构图。

13、根据权利要求8所述的方法，

其中所述指令包括区域内光束阻止指令；

包括编码所述区域内光束阻止指令用于多条光纤的共享；以及

包括解码将要分发到所述多个光束以覆盖至少两个区域中的每一个的所述编码的指令，所述至少两个区域在曝光期间同时被写入构图。

14、一种直写扫描曝光设备，所述设备包括：

载物台，用于保护衬底，并能够扫描所述衬底，所述衬底具有形成在其上的记录介质；

数据处理部分，用于生成相关于形成在所述衬底之上的构图的光束阻止指令；

多光束部分，其聚焦在所述记录介质上；

光束阻止部分，用于在所述衬底被扫描时根据所述光束阻止指令控制所述多光束部分；以及

多个载体，用于将所述光束阻止指令从数据处理部分携带到所述光束阻止部分；

其中所述光束阻止指令被并行发送以使至少两个区域被多光束部分同时写在所述记录介质上以在所述至少两个区域上形成构图。

15、根据权利要求14所述的设备，还包括：

编码器，用于编码所述光束阻止指令用于被载体传输；以及

解码器，用于解码所述载体上的所述编码的光束阻止指令，

其中所述编码的指令包括区域内光束阻止指令。