[发明专利]半导体基板洗涤液组合物无效
| 申请号： | 200910136547.3 | 申请日： | 2009-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN101580774A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | 村上丰;石川典夫 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张 晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 半导体 洗涤液 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种清洗半导体基板的洗涤液组合物，其特征在于，所述洗 涤液组合物含有一种或两种以上的脂肪族多元羧酸类和一种或两种 以上的碱性氨基酸类；所述脂肪族多元羧酸类为草酸、丙二酸、苹果 酸、酒石酸或柠檬酸，所述碱性氨基酸类为精氨酸、组氨酸或赖氨酸； 所述脂肪族多元羧酸类的质量百分浓度为0.01%-30%，所述碱性氨基 酸类的质量百分浓度为0.001%-10%；该洗涤液组合物的pH值不足 4.0。
2.如权利要求1所述的洗涤液组合物，其特征在于，还含有一 种或两种以上的阴离子表面活性剂或非离子表面活性剂。
3.如权利要求1或2所述的洗涤液组合物，其特征在于，用于 化学机械抛光后的具备铜布线的半导体基板中。
4.一种半导体基板的洗涤方法，该半导体基板具有化学机械抛 光后的铜布线，其特征在于，该方法使用权利要求1或2所述的洗涤 液组合物。
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