[发明专利]光学记录介质及其制造方法以及溅射靶及其制造方法

权利要求书

1.一种光学记录介质，包括：

(A)基板，具有区分轨道区的特征；

(B)光学记录层，设置在所述基板上；以及

(C)透光层，设置在所述光学记录层上，

其中，所述光学记录层具有组分(Sb₂Se₃)_wTe_xO_yPd_z，其中，w、x、y和z中的每个都表示摩尔百分比并满足

10(mol％)≤w≤60(mol％)；

0(mol％)＜x≤60(mol％)；

30(mol％)≤y≤60(mol％)；

10(mol％)≤z≤30(mol％)；以及

w+x+y+z＝100。

2.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，满足w+z≥26(mol％)。

3.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，通过用波长为380nm～420nm的光束通过数值孔径为0.85±0.05的物镜照射所述光学记录层，将数据记录在所述光学记录层上并从所述光学记录层再生数据。

4.根据权利要求3所述的光学记录介质，其中，用通过所述透光层的所述光束照射所述光学记录层。

5.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，所述光学记录介质是可记录型的。

6.一种光学记录介质，包括：

(A)基板，具有区分轨道区的特征；

(B)两个或两个以上光学记录层，设置在所述基板上；

(C)透光层，设置在顶部的光学记录层上；以及

(D)中间层，设置在所述光学记录层之间，

其中，每个光学记录层都具有组分(Sb₂Se₃)_wTe_xO_yPd_z，其中，w、x、y和z中的每个都表示摩尔百分比并满足

10(mol％)≤w≤60(mol％)；

0(mol％)＜x≤60(mol％)；

30(mol％)≤y≤60(mol％)；

10(mol％)≤z≤30(mol％)；以及

w+x+y+z＝100。

7.根据权利要求6所述的光学记录介质，其中，满足w+z≥26(mol％)。

8.根据权利要求6所述的光学记录介质，其中，通过用波长为380nm～420nm的光束通过数值孔径为0.85±0.05的物镜照射所述光学记录层，将数据记录在所述光学记录层上并从所述光学记录层再生数据。

9.根据权利要求8所述的光学记录介质，其中，用通过所述透光层的所述光束照射所述光学记录层。

10.根据权利要求6所述的光学记录介质，其中，所述光学记录介质是可记录型的。

11.一种光学记录介质的制造方法，包括：

在具有区分轨道区的特征的基板上形成包含(Sb₂Se₃)_wTe_xO_yPd_z的光学记录层；以及

在所述光学记录层上形成透光层，

通过使用具有组分(Sb₂Se₃)_WTe_XPd_Z的溅射靶和作为处理气体的氧气进行溅射来形成所述光学记录层，其中，w、x、y、z、W、X和Z中的每个都表示摩尔百分比并满足

10(mol％)≤w≤60(mol％)；

0(mol％)＜x≤60(mol％)；

30(mol％)≤y≤60(mol％)；

10(mol％)≤z≤30(mol％)；

w+x+y+z＝100；

5(mol％)≤W≤90(mol％)；

0(mol％)＜X≤80(mol％)；

10(mol％)≤Z≤30(mol％)；以及

W+X+Z＝100。